An Investigation into Electrical Characteristics of the Double Gate p-IMOS and its Comparison with the Single Gate p-IMOS

سال انتشار: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 2,062

فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ICEE16_310

تاریخ نمایه سازی: 6 اسفند 1386

چکیده مقاله:

In this paper a double gate p-IMOS (DG p- IMOS) device is analyzed. Simulation studies at 400 K show that not only this device provides smaller subthreshold slope, threshold voltage and gate capacitance but also larger ON/OFF current ratio and higher transconductance as compared to an equivalent single gate p-IMOS (SG p-IMOS).

کلیدواژه ها:

CMOS multistage amplifiers ، nested Miller compensation ، and active capacitive feedback

نویسندگان

Faezeh Arab Hassani

Device Modeling and Simulation Lab, ECE Dept., University of Tehran

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • K. Gop alakrishnan, P. B. Griffin, and J. Plummer, «I-MOS: ...
  • K. Gop alakrishnan, R.Woo, C. Jungemann, P. B. Griffin, and ...
  • نمایش کامل مراجع