اثر نانو ذرات اسید سالیسیلیک در مقایسه با اسید سالیسیلیک بر شاخص های رشد رویشی توت فرنگی رقم کاماروزا تحت تنش کلرید سدیم

توت فرنگی به دلیل دارا بودن ارزش بالای تغذیه ای و همچنین خواص آنتی اکسیدانی دارای طرفداران زیادی می باشد. متأسفانه این گیاه حساس به تنش شوری بوده و تنش شوری منجر به کاهش رشد گیاه می گردد. استفاده نامناسب از کودهای شیمیایی، آبیاری با آبهای دارای شوری بالا منجر به ایجاد مشکلات فراوانی در رابطه با کشت و کار این محصول با ارزش گردیده است. از این رو یافتن روش های علمی و مناسب در جهت کاهش اثرات تنش شوری در تولید این محصول بسیار ضروری به نظر می رسد. یکی از تیمارهای موثر در رابطه با کاهش اثرات شوری استفاده ازاسید سالیسیلیک به صورت محلول پاشی بر روی بوته های توت فرنگی می باشد. به این دلیل آزمایشی به صورت فاکتوریل در قالب طرح پایه بلوک های کامل تصادفی در چهار تکرار با استفاده ازتیمار نانو اسید سالیسیلیک و اسید سالیسیلیک به غلظت 1 میلی مولار اجرا شد. نتایج نشان داد که اعمال کلرید سدیم بویژه در غلظت 50 میلی مولار طول شاخساره، وزن تر و خشک شاخساره، تعداد برگ، کلروفیل برگ را کاهش ولی بر طول ریشه، وزن تر ریشه، وزن خشک ریشه غیر معنی دار بود. در این شرایط استفاده از تیمارهای نانو ذرات اسید سالیسیلیک و اسید سالیسیلیک منجر به افزایش شاخص های فوق در شرایط تنش ناشی از کلرید سدیم گردید. نتایج نشان داد که تیمار نانو اسید سالیسیلیک بهتر و کارآمدتر از اسیدسایسیلیک در کاهش اثرات مضر تنش کلرید سدیم می باشد.

کلیدواژه ها:

نانو اسید سالیسیلیک ، اسید سالیسیلیک ، شاخص های رشد رویشی ، توت فرنگی ، تنش کلرید سدیم