روشی مناسب برای فرایند نازک سازی و صیقلدهی ایندیم آنتیموناید با حداقل ناهمواری سطحی
محل انتشار: چهارمین همایش ملی مهندسی اپتیک و لیزر ایران
سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 415
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCOLE04_121
تاریخ نمایه سازی: 30 دی 1394
چکیده مقاله:
روشی مناسب برای نازکسازی و صیقلدهی نهایی ایندیم آنتیموناید با استفاده از محلول آلومینیم اکسید ارائه شده است. محلول با ساینده 1 میکرون با خاصیت عاری از انباشتگی از نظر نرخ حذف قابل مقایسه با محلول های معمولی باذرات بزرگتر از ده میکرون است ک برای نازک کاری نیم هادیها مورد استفاده قرار میگیرد.سطحی با حداقل آسیب سطحی و با ناهمواری خیلی کم با استفاده از این محلول و پد نرم حاصل میشود. نتایج آنالیز سطحی با استفاده از AFM نشان داده شده است.
نویسندگان
حسن چنارانی
کارشناسی ارشد دانشگاه تهران
مهدی علیزاده
کارشناسی دانشگاه شهید ستاری
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :