لیتوگرافی بااستفاده ازمیدان مغناطیسی
سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 831
فایل این مقاله در 8 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
MATHPHY02_235
تاریخ نمایه سازی: 30 شهریور 1394
چکیده مقاله:
دراین پژوهش روشی ساده برای لیتوگرافی تحت تاثیر میدان مغناطیسی ارایه شده است برای این منظور لایه نازکی ازفروسیال روی فوتورزیستی که برروی شیشه تعبیه شده قرارگرفت و تحت تاثیر میدان مغناطیسی عمودی و افقی به ترتیب الگوهای منظم شش گوشی و زنجیره های میکرومتری تشکیل شد سپس با استفاده ازتابش UV و فرایند سونش شیمیایی الگوهای ایجادشده برروی فوتورزیست انتقال داده شد
نویسندگان
مهسا مالکی فارسانی
دانشجوی کارشناسی ارشد نانوفیزیک دانشگاه سیستان و بلوچستان
محمد گشتاسبی راد
استادیار گروه فیزیک دانشگاه سیستان و بلوچستان
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :