مطالعه مکانیزم بازدارندگی فیلم های خود مجموعه ساز شیف بازهای N,N'-Ethylen-bis(salicylidenimine) و N,N'-ortho-Phenylen-bis(salicylidenimine) روی مس در محیط کلریدی در دمای محیط

خواص بازدارندگی شیف بازهای N,N'-Ethylen-bis(salicylidenimine) وN,N'-ortho-Phenylen-bis(salicylidenimine) که به صورت لایه های خودمجموعه ساز بر روی سطح الکترود مسی اعمال شده بودند با استفاده از طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی در محیط خورندة 0.88M NaCl مورد بررسی قرار گرفت و مدار معادل الکتریکی سیستم، با استفاده از نمودارهای نایکوئیست و بد - فاز شبیه سازی شد . پارامترهای حاصل نشان داد که افزایش غلظت بازدارنده در محلول الکلی حاوی شیف باز، علاوه بر افزایش مقاومت انتقال بار، کاهش ظرفیت لایة دوگانه و ظرفیت لایة خودمجموعه ساز را نیز به دنبال دارد و در نتیجه راندمان بازدارندگی با افزایش غلظت بهبود می یابد . ٢٣ رسم شدند و مشخص شد که هر دو بازدارنده از ایزوترم o C همچنین، ایزوترمهای جذب نیز در دمای جذب لانگمور تبعیت می کنند .

کلیدواژه ها:

بازدارنده ، شیف باز ، مس ، امپدانس AC ، فیلم های خود مجموعه ساز ، محیط کلریدی