نانو لیتوگرافی با استفاده از روش نوشتن مستقیم لیزر فمتوثانیه

این پژوهش به بررسی فرآیند نانولیتوگرافی با استفاده از روش نوشتن مستقیم لیزر فمتوثانیه پرداخته است. نانولیتوگرافی، یک فن آوری پیشرفته است که امکان ساخت ساختارهای میکروسکوپی و نانومتری را فراهم می کند. این فرآیند، علاوه بر توانایی در ساخت ادوات الکترونیکی بسیار کوچک و سریع همچون میکرو و نانوچیپ­ها، در ساخت عناصر نانونوری انعطاف پذیر و قدرتمند برای مدارهای مجتمع نوری نیز کاربرد دارد. با استفاده از این تکنیک، توانایی ساخت موجبرها و میکرورینگ­هایی با سطوح بسیار هموار بررسی شده است که منجر به کاهش چشمگیر اتلاف نوری هنگام پیشروی موج در این ساختارها می گردد. این فناوری می تواند در افزایش بهره وری و عملکرد ادوات بسیار مفید واقع شود.

کلیدواژه ها:

: Integrated photonic circuits ، Nanolithography ، Femtosecond laser direct writing method ، optical waveguides ، Microring ، Optical loss ، Two photon Absorption ، مدارهای مجتمع نوری ، نانولیتوگرافی ، روش نوشتن مستقیم لیزر فمتوثانیه ، موجبرهای نوری ، میکرورینگ ، اتلاف نوری ، جذب دو فوتونی