الکتروانباشت بس لایه های فلزی Co-Cu /Cu بر روی Ti و بررسی ریزساختار آنها
محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران 1385
سال انتشار: 1385
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 2,607
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IPC85_020
تاریخ نمایه سازی: 13 بهمن 1385
چکیده مقاله:
بس لایه های فلزی Cu-Co/Cu از الکترولیتی حاوی سولفات مس و کبالت در حضور H3BO3 بر روی زیر لایه پلی کریستال Ti . به روش الکتروانباشت تهیه شدند طیف XRD این بس لایه ها به منظور بررسی ریز ساختار آنها مورد مطالعه قرار گرفت، مشاهده پیک های اقماری در این طیف وجود فصل مشترک تیز بین زوج لایه های CuوCo-Cuرا بیان می کند . سپس با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی(SEM) خواص سطحی این بس لایه ها نیز مورد بررسی و مطالعه قرار گرفت .
نویسندگان
ایرج کاظمی نژاد
دانشگاه شهید چمران اهواز، دانشکده علوم، گروه فیزیک
مرجان ذاکرین
دانشگاه شهید چمران اهواز، دانشکده علوم، گروه فیزیک
هوشنگ پرهام
دانشگاه شهید چمران اهواز، دانشکده علوم، گروه فیزیک
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :