لیتوگرافی پروبی روبشی شیمیایی مکانیکی (MC-SPL) در ابعاد نانومتری بر روی لایه ماسک فوتورزیست

در این تحقیق ابتدا نانو لیتگرافی برروی لایه ماسک فوتورزیست که روی بستر LiTaO3 لایه نشانی شده با ایجاد حفره هایی با پارامترهای مختلف بررسی مینماییم . سپس روش لیتوگرافی پروبی روبشی مکانیکی شیمیایی (mechano- chemical scanning probe lithography) بررسی AFM الگوهای پیچیده تری بوسیله لیتوگرافی نیروی مستقیم Al/SiO2/Si میشود که در آن بر روی لایه ماسک لایه نشانی شده بر روی چند لایه ایجاد میشود . سپس ویفر را بوسیله محلول اسید فسفریک اچ میگردد و نانو ساختارهای آلومنیوم ایجاد میگردد . این تشکیل نانو ساختارها گام مهمی به سمت یاخت قطعات نانومتری است .