لیتوگرافی پروبی روبشی شیمیایی مکانیکی (MC-SPL) در ابعاد نانومتری بر روی لایه ماسک فوتورزیست
محل انتشار: دومین همایش دانشجویی فناوری نانو
سال انتشار: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 2,305
فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NANOSC02_267
تاریخ نمایه سازی: 27 دی 1385
چکیده مقاله:
در این تحقیق ابتدا نانو لیتگرافی برروی لایه ماسک فوتورزیست که روی بستر LiTaO3 لایه نشانی شده با ایجاد حفره هایی با پارامترهای مختلف بررسی مینماییم . سپس روش لیتوگرافی پروبی روبشی مکانیکی شیمیایی (mechano- chemical scanning probe lithography) بررسی AFM الگوهای پیچیده تری بوسیله لیتوگرافی نیروی مستقیم Al/SiO2/Si میشود که در آن بر روی لایه ماسک لایه نشانی شده بر روی چند لایه ایجاد میشود . سپس ویفر را بوسیله محلول اسید فسفریک اچ میگردد و نانو ساختارهای آلومنیوم ایجاد میگردد . این تشکیل نانو ساختارها گام مهمی به
سمت یاخت قطعات نانومتری است .
نویسندگان
محمد عبدالاحد
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
امید اخوان
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
علیرضا مشفق
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :