مطالعه رفتار تف جوشی نانوذرات اکسید روی با هدف کنترل رشد دانه ها

در این پژوهش با بهره گیری از شیوه جدید تف جوشی دومرحله ای ، رشد افراطی دانه ها در مرحله نهایی تف جوشی نانو ذرات Zno کنترل شد. تف جوشی دو مرحله ای با دماهای 800 درجه سانتی گراد برای مرحله اول و 750 درجه سانتی گراد برای مرحله دوم صورت پذیرفت. در حالیکه تف جوشی معمولی به صورت غیر هم دما در محدوده دمایی 600 درجه سانتی گراد تا 1200 درجه سانتی گراد انجام گرفت. مطالعات ریز ساختاری تف جوشی معمولی بیانگر رشد شدید دانه ها درمرحله نهایی تف جوشی است. به طوریکه اندازه دانه قطعات چگالی یافته (چگالی 98%>) در حدود 4؟؟ است. در مقابل انجام فرایند تف جوشی دو مرحله ای (850 درجه سانتی گراد – T1 و 750 درجه سانتی گراد – T2) دستیابی به ساختاری با اندازه دانه های زیر میکرون (680nm) را میسر ساخت.

کلیدواژه ها:

نانو ینترینگ ، تف جوشی دو مرحله ای ، سرامیکها