اثردمای کلسینه برمیزان تراگسیل وبازتاب لایه نازک نانومتخلخل SiO2لایه نشانی شده برزیرلایه شیشه ای به روش لایه به لایه
محل انتشار: سومین همایش سراسری کاربردهای دفاعی علوم نانو
سال انتشار: 1392
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 813
فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
BSNANO03_119
تاریخ نمایه سازی: 9 بهمن 1392
چکیده مقاله:
دراین تحقیق لایه نازک نانومتخلخل SIO2 به روش سل ژل وباتکنیک لایه به لایه به منظورساخت پوشش ضدبازتاب مورد استفاده درانواع سامانه های اپتیکی مربوط به صنایع دفاعی برروی زیرلایه شیشه و دردماهای مختلف کلسینه لایه نشانی شد خواص اپتیکی ومورفولوژی سطح بااستفاده ازتکنیک های FE-SEM Á UV/vis spectrophotometer بررسی شدند نتایج تحقیق نشان دادند که باافزایش دما ابتدا خواص اپتیکی بهبود و سپس تضعیف میشوند دمای بهینه کلسینه برای ساخت این پوشش به دست امدوحداکثر عبور97درصدوحداقل انعکاس 1/8درصددربازه طول موج نورمرئی دردمای بهینه 300درجه سانتیگراد حاصل شد
کلیدواژه ها:
نویسندگان
محمدرضا مجاب
دانشگاه صنعتی مالک اشتراصفهان
اکبر اسحاقی
دانشگاه صنعتی مالک اشتراصفهان
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :