تاثیر دمای بازپخت روی برخی خواص ساختاری ، نوری و الکتریکی لایه های نازک نانو ساختار اکسید روی تهیه شده به روش سل -ژل

در این کار تجربی برای تهیه لایه های نازک اکسید روی از روش سل - ژل و غوطه وری استفاده شده است. قبل از بررسی خواص فیزیکی، لایهها تحت عملیات حرارتی قرار گرفتهاند تا کیفیت آنها از لحاظ بلوری بالا رود. لایه ها دارای ضخامت بهینه بوده و در دماهای مختلف بازپخت شده اند و پس از بازپخت، برخی از پارامترهای ساختاری ، نوری و الکتریکی مانند طرح پراش پرتو ایکس ، تصاویر حاصل از میکروسکوپ الکترونی SEM ضریب جذب نوری و ضریب هال برای نمونه هایی که در دماهای مختلف بازپخت شدهاند، بررسی و نتایج باهم مقایسه شدهاند. تحلیل های XRD نشان می دهند که ساختار فیلمهای تهیه شده چند بلوری بوده و فیلمها دارای ساختار نانوکریستالی بوده و با افزایش دمای بازپخت، ساختار فیلمها منظمتر و بلورینگی افزایش و میزان تخلخل ها کاهش مییابد. نتایج حاصل از میکروسکوپ الکترونی SEM بیانگر افزایش بلورینگی و نظم شبکه کریستالی اکسید روی و نیز افزایش اندازه دانهها به دلیل افزایش دمای بازپخت میباشد . اندازه گیری های نوری نشان میدهند که با افزایش دمای بازپخت گاف نوری نمونه ها کاهش یافته اما ضریب جذب نوری افزایش می یابد. همچنین با افزایش دمای بازپخت ضریب هال لایه های تهیه شده کاهش می یابد.

کلیدواژه ها:

غوطه وری ، سل-ژل ، لایه های نازک ، اکسید روی ، دمای بازپخت ، اندازه دانه