ناشر تخصصی کنفرانس های ایران

لطفا کمی صبر نمایید

Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings

Please waite ..
CIVILICAWe Respect the Science
ناشر تخصصی کنفرانسهای ایران
عنوان
مقاله

بررسی اثر هیدروژن درلایه های نازک اکسید قلع آلاییده شده با درصد ها مختلف ناخالصی ایندیوم (SnO2:In)

تعداد صفحات: 4 | تعداد نمایش خلاصه: 964 | نظرات: 0
سال انتشار: 1386
کد COI مقاله: IPC86_265
زبان مقاله: فارسی
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

راهنمای دانلود فایل کامل این مقاله

متن کامل این مقاله منتشر نشده و در پایگاه سیویلیکا موجود نمی باشد.

منبع مقالات سیویلیکا دبیرخانه کنفرانس ها و مجلات می باشد. برخی دبیرخانه ها اقدام به انتشار اصل مقاله نمی نمایند.به منظور تکمیل بانک مقالات موجود چکیده این مقالات در سایت درج می شوند ولی به دلیل عدم انتشار اصل مقاله امکان ارائه آن وجود ندارد.

خرید و دانلود فایل مقاله

متن کامل (فول تکست) این مقاله منتشر نشده و یا در سایت موجود نیست و امکان خرید آن فراهم نمی باشد.

مشخصات نویسندگان مقاله بررسی اثر هیدروژن درلایه های نازک اکسید قلع آلاییده شده با درصد ها مختلف ناخالصی ایندیوم (SnO2:In)

محسن میرنژاد - آزمایشگاه میکرو الکترونیک، گروه فیزیک دانشگاه فردوسی مشهد ، مشهد
محمود رضایی رکن آبادی - آزمایشگاه میکرو الکترونیک، گروه فیزیک دانشگاه فردوسی مشهد ، مشهد
حسین کشمیری - آزمایشگاه میکرو الکترونیک، گروه فیزیک دانشگاه فردوسی مشهد ، مشهد
محمدرضا رشیدیان وزیری - گروه فیزیک دانشگاه بیرجند، بیرجند

چکیده مقاله:

در انواع ساختارهای نمونه های نبمه هادی، نقایص بلوری ( با چگالی های متفاوت ) وجود دارد . اتصالات آویزان ناشی از این نقایص، باعث به دام اندازی حامل های بار و کاهش تحرک حامل ها می شوند . انتظار می رود که قرارگیری لایه نازک SnO2 :In در معرض هیدروژن اتمی موجب افزایش چشمگیر هدایت الکتریکی این لایه ها شود، چرا که هیدروژن اتمی می تواند با بستن اتصالات آویزان ( ناشی از نقص های بلوری ) ، تحرک حامل های بار را افزایش دهد . در این تحقیق لایه های نازک SnO2 :In با درصد های مختلف ناخالصی In ساخته شده به روش اسپری پایرولیز، در شرایط بهینه هیدروژن دهی شدند . نتیجه این امر کاهش 30 تا 45 درصدی مقاومت الکتریکی نمونه ها بود در حالیکه کاهش کمی در عبور اپتیکی لایه ها مشاهده شد .

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

برای لینک دهی به این مقاله می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:

https://civilica.com/doc/22574/

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
میرنژاد، محسن و رضایی رکن آبادی، محمود و کشمیری، حسین و رشیدیان وزیری، محمدرضا،1386،بررسی اثر هیدروژن درلایه های نازک اکسید قلع آلاییده شده با درصد ها مختلف ناخالصی ایندیوم (SnO2:In)،کنفرانس فیزیک ایران 1386،یاسوج،،،https://civilica.com/doc/22574

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (1386، میرنژاد، محسن؛ محمود رضایی رکن آبادی و حسین کشمیری و محمدرضا رشیدیان وزیری)
برای بار دوم به بعد: (1386، میرنژاد؛ رضایی رکن آبادی و کشمیری و رشیدیان وزیری)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مدیریت اطلاعات پژوهشی

صدور گواهی نمایه سازی | گزارش اشکال مقاله | من نویسنده این مقاله هستم

اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

علم سنجی و رتبه بندی مقاله

مشخصات مرکز تولید کننده این مقاله به صورت زیر است:
نوع مرکز: دانشگاه دولتی
تعداد مقالات: 25,310
در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

مقالات مرتبط جدید

به اشتراک گذاری این صفحه

اطلاعات بیشتر درباره COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.

پشتیبانی