بررسی اثر افزایش دما بر ویسکوزیته سل V2O5 و تاثیر آن بر خصوصیات اپتیکی و مرفولوژیکی لایههای نازک V2O5 تهیه شده به روش سل - ژل

در این تحقیق لایه های نازک اکسید وانادیوم ) ) V2O5 با استفاده از روش سل - ژل از طریق انحلال پودر وانادیوم پنتاکسید ) ) V2O5 در محلول پراکسید هیدروژن پانزده درصد ) ) H2O2 %15 تهیه شدند . برای این کار 3 gr پودر ) ) V2O5 را در 300 ml پراکسید هیدروژن حل کردیم و بـا تقـسیم آن بـه سـه قـسمت در دماهـای 60 ، 75 و 90 0 C تحت عملیات گرمایش قرار دادیم تا سل های مناسب تهیه شدند . به منظور بررسی خصوصیات اپتیکی از این سل ها جهت تهیه پوشش دهـی بـر بـسترهای d, α, ( تحت عملیات گرمایش قرار گرفتند . تعیین ثابتهای اپتیکی لایه هـا 150 0 C شیشه ای با استفاده از تکنیک غوطه وری استفاده شد و در نهایت لایه ها در دمای ( با استفاده از روش بهینه سازی و تنها با استفاده از طیف تراگسیلی لایهها صورت گرفت . نتایج بدست آمده نشان میدهد با افزایش ویسکوزیته، ضریب جذب n, Eg2/3 eV و ضخامت لایهها افزایش یافته و ضریب شکست لایهها کاهش مییابد . گاف نواری انرژی بدست آمده برای لایههای نازک اکسید وانادیوم در این تحقیـق محاسبه شده است . نتایج میکروسکوپ پروبی روبشی نشان می دهد افزایش ویسکوزیته باعث افزایش پارامترهای زبری لایه می شود . نقش پراش پرتو ایکس ( XRD ( نشان میدهد ساختار پودر تهیه شده در دمای 450 0 C پلی کریستالی است .