ناشر تخصصی کنفرانس های ایران

لطفا کمی صبر نمایید

Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings

Please waite ..
CIVILICAWe Respect the Science
ناشر تخصصی کنفرانسهای ایران
عنوان
مقاله

رشد و مشخصه یابی نانومیله های WO3 بر روی زیر لایه میکا به روش شیمیایی Sol-Gel

تعداد صفحات: 4 | تعداد نمایش خلاصه: 1148 | نظرات: 0
سال انتشار: 1386
کد COI مقاله: IPC86_225
زبان مقاله: فارسی
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

راهنمای دانلود فایل کامل این مقاله

متن کامل این مقاله منتشر نشده و در پایگاه سیویلیکا موجود نمی باشد.

منبع مقالات سیویلیکا دبیرخانه کنفرانس ها و مجلات می باشد. برخی دبیرخانه ها اقدام به انتشار اصل مقاله نمی نمایند.به منظور تکمیل بانک مقالات موجود چکیده این مقالات در سایت درج می شوند ولی به دلیل عدم انتشار اصل مقاله امکان ارائه آن وجود ندارد.

خرید و دانلود فایل مقاله

متن کامل (فول تکست) این مقاله منتشر نشده و یا در سایت موجود نیست و امکان خرید آن فراهم نمی باشد.

مشخصات نویسندگان مقاله رشد و مشخصه یابی نانومیله های WO3 بر روی زیر لایه میکا به روش شیمیایی Sol-Gel

پریسا خسروی کرمانی - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
روح ا... عظیمی راد - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
امید اخوان - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
علیرضا مشفق - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، پژوهشکده علوم و فناوری نانو - دانشگ

چکیده مقاله:

در این تحقیق، نانو میله های اکسید تنگستن با حرارت دادن لایه نازک اکسید تنگستن که با روش شیمیایی سل - ژل به طریق غوطه وری بـرروی زیرلایـه میکـا لایـه نشانی شده، در شرایط کنترل شده ( دمای 8000 C ، محیط گازی N2 به مدت زمان 60 دقیقه ) رشد داده شدند . به منظور بررسی خواص فیزیکی و شـیمیایی نـانو میلـه های اکسید تنگستن تهیه شـده ، از تکنیـک میکروسـکوپی الکترونـی روبـشی (SEM) بـرای ریخـت شناسـی، شـکل، انـدازه و توزیـع آنهـا در سـطح و از تکنیـک اسپکتروسکوپی فتوالکترونهای اشعه ایکس (XPS) برای تعیین ترکیب شیمیایی سطح استفاده شد . بر اساس تحلیل نتایج بدست آمده از طیف XPS ، 75% پیوندهای اکسید تنگستن روی سطح از نوع WO3و 25% آن WOx هستند . با توجه به تحلیل مشاهدات تصاویر SEM ، نانو میله های سنتز شده دارای طول و پهنایی به ترتیب بین 3 -10 μm و 200-400 nm می باشند.

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

برای لینک دهی به این مقاله می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:

https://civilica.com/doc/22534/

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
خسروی کرمانی، پریسا و عظیمی راد، روح ا... و اخوان، امید و مشفق، علیرضا،1386،رشد و مشخصه یابی نانومیله های WO3 بر روی زیر لایه میکا به روش شیمیایی Sol-Gel،کنفرانس فیزیک ایران 1386،یاسوج،،،https://civilica.com/doc/22534

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (1386، خسروی کرمانی، پریسا؛ روح ا... عظیمی راد و امید اخوان و علیرضا مشفق)
برای بار دوم به بعد: (1386، خسروی کرمانی؛ عظیمی راد و اخوان و مشفق)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مدیریت اطلاعات پژوهشی

صدور گواهی نمایه سازی | گزارش اشکال مقاله | من نویسنده این مقاله هستم

اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

علم سنجی و رتبه بندی مقاله

مشخصات مرکز تولید کننده این مقاله به صورت زیر است:
نوع مرکز: دانشگاه دولتی
تعداد مقالات: 12,951
در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

مقالات مرتبط جدید

به اشتراک گذاری این صفحه

اطلاعات بیشتر درباره COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.

پشتیبانی