اثر DMF برساختار تخلخلی سیلیکان متخلخل
محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران 1386
سال انتشار: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,193
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IPC86_050
تاریخ نمایه سازی: 20 دی 1385
چکیده مقاله:
استفاده از DMF ( دی متیل فرمامید ) در محلول الکترولیت شامل اسید HF باعث ایجاد ساختار تخلخلی بـر روی پایـه هـای سـیلیکان تـک کریـستالی نـوع p- گردید. تصویرهای SEM نشان داد استفاده از DMF منجر به شکل گیری منظم تخلخل و ستونها می شود . تاثیر پارامترهای آندیزاسیون مانند چگالی جریان در حضور DMF و عدم حضور آن در محلول الکترولیت بر روی ساختار تخلخلی نمونه ها بررسی شد . نتایج نشان داد که افزایش چگال ی جریان در هردو حالت باعث افزایش تخلخـل مـی گردد . لیکن این تاثیر در حضور DMF بسیار واضح تر می باشد . اندازه گیری درصد تخلخل نمونه ها با روش وزن سنجی ) ) gravimetric method نیز نشان داد که . استفاده از DMF باعث ایجاد تخلخل دقیق تری در نمونه ها می گردد
نویسندگان
ایرج بزرافکن
گروه فیزیک دانشگاه قم
رضا ثابت داریانی
گروه فیزیک دانشگاه الزهرا
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :