اندازه گیری ضرایب نوری غیرخطی فریت روی کبالت با استفاده از روش زد- اسکن و با شدت متغیر

سال انتشار: 1403
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 119

فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_PSI-24-3_006

تاریخ نمایه سازی: 14 بهمن 1403

چکیده مقاله:

در این مقاله، نانوذرات فریت روی کبالت با فرمول  Cox-۱ZnxFe۲O۴با استفاده از روش هم رسوبی با مقادیر x متفاوت سنتز شدند. یک لیزر سبز به عنوان منبع برای اندازه گیری ضریب شکست غیرخطی و ضریب جذب در سه شدت مختلف استفاده شد. روش زد اسکن برای هر دو دیافراگم بسته و باز در دمای اتاق استفاده شد. یافته ها نشان می دهد که با افزایش شدت اولیه لیزر، ضریب شکست غیرخطی و ضریب جذب غیرخطی کاهش می یابد. علاوه بر این، افزایش غلظت در یک شدت خاص منجر به تغییر در خواص غیرخطی می شود. همچنین، افزایش ضریب جذب خطی با افزایش این ضرایب غیر خطی مطابقت دارد. این نانوساختار به دلیل ضریب شکست منفی آن در شرایط غیرخطی قوی برای کاربردهای حسگر در شب ارزشمند است. در این زمینه، مدل اسپینل نانوساختار پتانسیل امیدوارکننده ای برای کاربردهای ارتباطی ۶ G دارد.

کلیدواژه ها:

نانوذرات زینک کبالت فریت. روش زد ، اسکن. ضریب شکست غیرخطی. ضریب جذب غیرخطی

نویسندگان

فروزان حبیبی

بخش فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه شهرکرد

محمد مرادی

-بخش فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه شهرکرد -گروه تحقیقاتی فوتونیک، دانشگاه شهرکرد

نگار داوودیان

بخش فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه شهرکرد

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • R R A Ganeev, et al., Phys. ۴۷ (۲۰۰۲) ۹۹۱ ...
  • T Jia, et al., Laser. Technol. ۴۰ (۲۰۰۸) ۹۳۶ ...
  • K H Cho, et al., Acta. ۵۱ (۲۰۰۵) ۹۵۶ ...
  • J F Wang, et al., Science ۲۴ (۲۰۰۱) ۱۴۵۵ ...
  • G Sergeev and T Shabatina, Colloids Surf. A: Physicochem. Eng. ...
  • V Sharma, R Yngard, and Y Lin, Colloid Interface Sci. ...
  • H Huang and Y Yang, Sci. Technol. ۶۸ (۲۰۰۸) ۲۹۴۸ ...
  • Y Choi, N H Ho, and C H Tung, Chem. ...
  • A Vilchis-Nestor, et al., Lett. ۶۲ (۲۰۰۸) ۳۱۰۳ ...
  • M Oliveira, et al., Colloid Interface Sci. ۲۹۲ (۲۰۰۵) ۴۲۹ ...
  • G Yang, et al., Mater. ۲۵ (۲۰۰۴) ۴۳۹ ...
  • T Catunda, J P Andreeta, and J C Castro, Opt. ...
  • S L Guo, et al., Quant. Electron. ۳۵ (۲۰۰۳) ۶۹۳ ...
  • H Tingchao, et al., Modern. Opt. ۳۷۲ (۲۰۰۸) ۳۹۳۷ ...
  • G S He, et al., Phys. ۸۱ (۱۹۹۷) ۲۵۲۹ ...
  • G S He, et al., IEEE J. Quantum Electron. ۳۹ ...
  • A Johan, et al., Phys. Conf. Ser. ۱۲۸۲ (۲۰۱۹) ۰۱۲۰۳۲ ...
  • M Sheikh-Bahaei, A A Said, and E W Van Stryland, ...
  • M Sheikh-Bahaei, et al., IEEE J. Quantum Electron. ۲۶ (۱۹۹۰) ...
  • M H Majlesara, Z Javadi, and R S Sirohi, Optik. ...
  • H Zhang, et al., Lett. ۱۱ (۲۰۱۲) ۱۸۵۶ ...
  • R W Boyd, A L Gaeta, and E Giese, “Nonlinear ...
  • نمایش کامل مراجع