طراحی وبررسی عملکردترانزیستور نانوصفحه ناهمگون دوسیم با دروازه همه جانبه

سال انتشار: 1403
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 133

فایل این مقاله در 11 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_PSI-24-3_014

تاریخ نمایه سازی: 14 بهمن 1403

چکیده مقاله:

در این مقاله، ما نوع جدیدی از ترانزیستور اثر میدانی نانوصفحه با دروازه (گیت) همه جانبه (GAA NS FET) را با عنوان سیم دوتایی (DW) معرفی می کنیم که اتصالات ناهمگون منبع (سورس) و کانال های کرنش را ادغام می کند. خواص الکتریکی آن را در دماهای مختلف(۳۰۰ کلوین) ، (۴۰۰ کلوین) و (۵۰۰ کلوین) ارزیابی می کنیم و آنها را با ترانزیستور نانوصفحه ناهمگون دوسیم با دروازه همه جانبه (Heterojunction DW GAA NS FET) و ترانزیستور نانوصفحه معمولی با دروازه همه جانبه (Conventional DW GAA NS FET) مقایسه می کنیم. تحقیقات ما شامل اثرات کنترل الکترواستاتیکی بر روی پارامترهای DC و آنالوگ، از جمله ظرفیت دروازه (Cgg)، رسانایی (Gm) و بسامد قطع (FT) برای هر دو نوع قطعه است. ناحیه کانال در ساختارهای ما شامل ژرمانیوم-سیلیکون (SiGe) (Si/Ge/Si) است و معرفی کرنش و ساختار ناهمگونی به طور قابل توجهی عملکرد دستگاه را افزایش می دهد. برای تجزیه و تحلیل دقیق قطعه نیمه رسانا، معادله گرادیان چگالی (DG) را به طور خودسازگار حل می کنیم. با استفاده از معادله شاکلی-رید-هال (SRH) برای تخمین تولید حامل، با در نظر گرفتن باریک شدگی گاف انرژی در رفتار انتقال و محاسبه بازترکیب از مدل آگور استفاده می کنیم. علاوه بر این، در دماهای (۳۰۰ کلوین) ، (۴۰۰ کلوین) و (۵۰۰ کلوین)، Heterojunction DW GAA NS FET در مقایسه با DW GAA NS FET معمولی، بهبود قابل توجهی در جریان حالت روشن و جریان حالت خاموش نشان می دهد. به طور کلی، نتایج ما بهبود قابل توجهی را در جریان تخلیه (درین)، رسانایی و بسامد افزایش واحد نشان می دهد که به ترتیب در دماهای مختلف، در حدود ۳۴، ۹.۵ و ۳۰ درصد افزایش یافته است. این بهبود به عملکرد برتر یسامد بالا برای Heterojunction DW GAA NS FET در مقایسه با DW GAA NS FET معمولی تبدیل می شود.

کلیدواژه ها:

ترانزیستور نانوصفحه ناهمگون دوسیم با دروازه همه جانبه ، ترانزیستور نانوصفحه معمولی با دروازه همه جانبه ، گرادیان چگالی ، بسامد بالا / آنالوگ ، حالت روشن و حالت خاموش

نویسندگان

رضا عباس نژاد

بخش مهندسی برق، واحد شبستر، دانشگاه آزاد اسلامی، شبستر

حسن رسولی سقای

بخش مهندسی برق، واحد تبریز، دانشگاه آزاد اسلامی، تبریز

سیدرضا حسینی

بخش مهندسی برق، واحد خوی، دانشگاه آزاد اسلامی، خوی

علی اصغر صدقی

بخش فیزیک، واحد شبستر، دانشگاه آزاد اسلامی، شبستر

علی واحدی

بخش فیزیک، واحد تبریز، دانشگاه آزاد اسلامی، تبریز

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • V B Sreenivasulu and V Narendar, AEU - Int. J. ...
  • K Baral, et al., Superlattices Microstruct. ۱۳۸ (۲۰۱۹) ۱۰۶۳۶۴ ...
  • B Kumar and R Chaujar, Silicon ۱۴ (۲۰۲۲) ۱۰۰۰۹۶۱۵ ...
  • V B Sreenivasulu and V Narendar, Silicon. ۱۴ (۲۰۲۲) ۰۱۲۲۱۳۲۸ ...
  • K Roy Barman and S Baishya, Phys. A ۱۲۵ (۲۰۱۹) ...
  • S Tayal, et al., Silicon. ۱۴ (۲۰۲۲) ۱ ...
  • N Loubet, et al.,IEEE. IEEE Symposium on VLSI technology (۲۰۱۷) ...
  • D Nagy, et al., IEEE J. Electron Devices Soc. (۲۰۱۸) ...
  • H H Park, et al., SISPAD. (۲۰۱۹) ۸۸۷۰۳۶۵ ...
  • Y Seon, et al., (۲۰۲۱). Electronics ۱۰ (۲۰۲۱) ۱۸۰ ...
  • K Bhol and U Nanda, Silicon ۱۴ (۲۰۲۲) ۰۰۹۰۹ ...
  • D Ryu, et al., IEEE J. Electron Devices Soc. ۱۰ ...
  • A K Shukla, A Nandi, and S Dasgupta. Solid-State Electro. ...
  • A K Shukla, A Nandi, and S Dasgupta. Electron. Mater. ...
  • C L Chu, et al., IEEE J. Electron Devices Soc. ...
  • A Chaudhry and M J Kumar. IEEE Trans. Device Mater. ...
  • P J Sung, et al., IEEE Trans. Electron Dev. ۶۷ ...
  • Y S Huang, et al., IEEE Electron Device Lett. ۳۹ ...
  • Q Zhang, et al., Nanomater. ۱۱ (۲۰۲۱) ۶۴۶ ...
  • K Chen, et al., IEEE Access ۱۱ (۲۰۲۳) ۳۲۸۷۱۴۸ ...
  • R Hosseini, et al., Comput. Electron. ۱۳ (۲۰۱۴) ۱۷۰ ...
  • M Bavir, A Abbasi, and A A Orouji, Journal of ...
  • N A Kumari and P Prithvi, Silicon ۱۴ (۲۰۲۲) ۱ ...
  • R Abbasnezhad, et al., Electr. Eng. ۷۴ (۲۰۲) ۵۰۳-۵۱۲ ...
  • Q Zhang, et al., (۲۰۲۱). Nanomater. ۱۱ (۲۰۲۱) ۶۴۶ ...
  • M Kantner et al., ۴۰۲ (۲۰۱۹) ۱۰۹۰۹۱ ...
  • Atlas User Manual, Device Simulation Software. (۲۰۱۱ ...
  • Z M Teng, H Ye, and T Qinyi, Phys. Commun. ...
  • A Richter, et al., Rev. ۸۶ (۲۰۱۲) ۱۶۵۲۰۲ ...
  • S Yoo and S Y Kim, IEEE Trans. Electron Devices ...
  • C Li, et al., IEEE Access ۹ (۲۰۲۱) ۶۳۶۰۲-۶۳۶۱۰ ...
  • K S Lee and J Y Park, (۲۰۲۲). Micromachines ۱۳ ...
  • نمایش کامل مراجع