اثر محلول پاشی نانوسیلیکون بر صفات مورفولوژیکی، عملکرد و تعدیل تنش خشکی در گیاه کینوا (Chenopodium quinoa L.)

اهداف: پژوهش حاضر با هدف بررسی اثر نانوسیلیکون برعملکرد و کاهش اثر ناشی از تنش آبی در گیاه کینوا اجراء شد. مواد و روش ها: آزمایش به صورت کرت های خرد شده بر پایه بلوک های کامل تصادفی در سه تکرار در مرکز تحقیقات و آموزش کشاورزی و منابع طبیعی فارس اجراء گردید. تیمارها شامل رژیم های آبیاری در چهار دور ۷، ۱۴، ۲۱ و ۲۸ روز و محلول پاشی نانوسیلیکون در سطوح صفر، ۳۰ و ۶۰ میلی گرم در لیتر درنظر گرفته شد. یافته ها: اعمال تنش رطوبتی متوسط (دور آبیاری ۲۱ روز) و شدید (دور آبیاری ۲۸ روز) در مقایسه با عدم تنش (دور آبیاری ۷ روز) سبب کاهش ۹۳/۵ و ۶۵/۲۴ درصد در طول پانیکول، ۷۷/۸ و ۸۱/۲۷ درصد در عرض پانیکول، ۱۴/۵ و ۴۴/۲۹ درصد در تعداد پانیکول، ۰۵/۱۲ و ۸۷/۲۳ درصد در وزن کل اندام هوایی، ۷۳/۲۴ و ۹۵/۵۴ درصد در عملکرد دانه، ۱۱/۲۶ و ۹۴/۵۵ درصد در وزن هزار دانه و ۵۳/۱۴ و ۱۶/۴۱ درصد در شاخص برداشت گیاه گردید. تنش های رطوبتی فوق سبب ۱۲۵ و ۸۴/۷۸ درصد افزایش در بهره وری مصرف آب شد. همچنین محلول پاشی نانوسیلیکون تاثیر معنی-داری بر شاخص های رشد گیاه کینوا دارد بطوری که حداکثر ارتفاع گیاه، طول, عرض و تعداد پانیکول، وزن کل اندام هوایی، عملکرد دانه و بهره وری مصرف آب در محلول پاشی نانوسیلیکون با غلظت ۳۰ میلی گرم در لیتر مشاهده گردید. نتیجه گیری: محلول پاشی نانوسیلیکون با غلظت ۳۰ میلی گرم در لیتر سبب پایین آمدن اثرات منفی تنش های رطوبتی در شرایط خشکی (دور آبیاری ۲۱ و ۲۸ روز) در گیاه کینوا می گردد.

کلیدواژه ها:

تنش خشکی ، رشد ، گیاه ، عملکرد دانه ، ماده بهبود دهنده شیمیایی