بررسی مکانیزم خوردگی توسط امپدانس الکتروشیمیائی در فرایند اکسی نیتروکربوراسیون آستنیتی

در این تحقیق به بررسی مقاومت به خوردگی لایه های تشکیل شده در فرآیند اکسی نیتروکربوراسیون آستنیتی پرداخته شده است . در این فرآیند، دمای نیتراسیون در حمام نمک مذاب بالاتر از ۵۹۵ درجه سانتیگراد، می باشد . سپس قطعات دریک حمام نمک مذاب اکسیدی کوئنچ می شوند تا بر روی لایه نیتریدی، یک لایه اکسیدی سیاه رنگ یکنواخت تشکیل شود . جهت بررسی های میکروساختاری آنالیزهای XRD ، SEM و میکروسختی سنجی بر روی نمونه ها انجام شد . همچنین آزمونهای خوردگی ASTM- امپدانس الکتروشیمیایی در محلول % ۵ / ۳ وزنی نمک طعام و پاشش مه نمکی تحت استاندارد B117برروی نمونه ها انجام شد . بررسی هایXRD نشانگر ایجاد فاز Fe3O4 پس از فرآیند اکسی نیتروکربوراسیون بود . با تحلیل نتایج امپدانس الکتروشیمیایی و شبیه سازی مدارهای معادل الکتریکی، به بررسی مقاومت به خوردگی لایه های مختلف پرداخته شد . نتایج حاکی از ترمیم لایه اکسیدی با گذشت زمان و حاکم بودن مکانیزم نفوذ در خوردگی نمونه ها بود .

کلیدواژه ها:

اکسی نیتراسیون آستنیتی ، امپدانس الکتروشیمیایی ، مدار معادل