روش الگوسازی نانو لیتوگرافی UV در ساخت ادوات و افزاره های نانو الکترونیک (بیشتر ادوات نانو نوری) طول موج حدود 400 نانومتر

روش الگوسازی نانو لیتوگرافی UV در ساخت ادوات و افزاره های نانو الکترونیک (بیشتر ادوات نانو نوری) است. این روش از اشعه ماوراء بنفش با طول موج حدود 400 نانومتر استفاده می کند. از آنجا که طول موج مورد استفاده ، تا حدودی حداقل عرض خط را تعیین می کند ، طول موجهای کوتاه تری برای تولید ساختار های کوچکتر مورد نیاز است. لیتوگرافی عمیق UV از لیزرهایی با طول موج 193 نانو متر استفاده می کند و می تواند ویژگی های زیر 50 نانومتر را تولید کند. اشعه ماوراء بنفش (13.5 نانومتر) و اشعه ایکس نیز استفاده میشود. روش های عمیق UV ، اشعه ماوراء بنفش شدید و اشعه ایکس می توانند ساختار هایی در مقیاس نانو متری ایجاد کنند ، اما به دلیل هزینه ابزار ها گران هستند. الزامات خاصی که برای ماسک های نوری و مقاوم در برابر عکس استفاده می شود هزینه ها و پیچیدگی روش ها را افزایش می دهد.

کلیدواژه ها:

نانو لیتوگرافی ، نانو الکترونیک ، الکترونیک ، برق ، افزاره های میکرو و نانو الکترونیک ، ادوات و افزاره های نانو الکترونیک ،