جوانه زنی و رشد الکتروشیمیایی مس روی پایه مولیبدن: اثر pH، پتانسیل و روش تمیز کردن سطح

در این تحقیق با استفاده از تکنیک­های ولتامتری سیکلی[۱] و کرونوآمپرومتری[۲] مراحل اولیه رسوب­دهی الکتروشیمیایی مس روی فلز پایه مولیبدن در محلول اندکی اسیدی مطالعه شده است. رسوب­دهی الکتروشیمیایی مس بر روی فلز پایه مولیبدن از دیدگاه ترمودینامیکی، سینتیکی، مکانیزم جوانه­زنی و رشد مورد ارزیابی قرار گرفت. با استفاده از ولتامتری سیکلی تعیین شد که رسوب­دهی الکتروشیمیایی مس روی فلز پایه مولیبدن یک فرایند برگشت­ناپذیر و تحت کنترل نفوذ می­باشد. تحت کنترل نفوذ بودن رسوب­دهی الکتروشیمیایی مس بر روی فلز پایه مولیبدن توسط رابطه­ی Randles-Sevcik تایید گردید. ضریب نفوذ مس در ۳ pH= و ۴ با استفاده از رابطه­ی Randles-Sevcik و رابطه­ی Cottrel محاسبه شدند که در تطابق خوبی با هم بودند. با استفاده از مدل Sharifker-Hills منحنی­های جریان گذرا[۳]مس تحلیل شدند. مکانیزم جوانه­زنی مس به عنوان تابعی از pH و پتانسیل مورد بررسی قرار گرفتند. در۳ pH= و ۴ مکانیزم جوانه­زنی و رشد مس روی نمونه­ سمباده شده به صورت ترکیبی از آنی[۴] و پیشرونده[۵] سه بعدی بود درحالی که با افزایش pH و پتانسیل مکانیزم جوانه­زنی به سمت مکانیزم آنی سه بعدی متمایل شد. غوطه ور کردن فلز پایه در محلول حاوی آمونیاک و سپس اسید کلریدریک بعد از سمباده زدن تاثیری بر روی مکانیزم جوانه­زنی و رشد نداشت. اچ کردن فلز پایه در محلول حاوی اسید سولفوریک، اسید نیتریک و اسید کلریدریک بعد از سمباده زدن مکانیزم جوانه­زنی را از حالت آنی سه بعدی به پیشرونده سه بعدی تغییر داد.    [۱] -Cyclic voltammetry [۲] -Chronoamperometry [۳] -current transient [۴]- instantaneous [۵]- progressive

کلیدواژه ها:

رسوب دهی الکتروشیمیایی ، مس ، جوانه زنی و رشد ، مولیبدن