اصلاح مورفولوژی سطحی پوشش تنگستنی ایجاد شده به روش پاشش پلاسمایی اتمسفری به منظور کاربرد در لامپ تولید پرتو ایکس

پوشش­های ضخیم تنگستن در ساخت آند لامپ­های تولید پرتو ایکس مورد استفاده در تجهیزات تشخیص پزشکی کاربرد دارند. با توجه به اهمیت صافی سطح آند در کیفیت تصویر رادیولوژی حاصل، لازم است قطعه آند تا حد امکان زبری سطحی پایینی داشته باشد و بتواند این زبری پایین را در شرایط کاری دمای بالا حفظ نماید.  به منظور بهبود کارآیی این لامپ­ها مورفولوژی سطحی پوشش­های تنگستنی اعمال شده به روش پاشش پلاسمایی اتمسفری بلافاصله پس از پوشش­دهی، بعد از عملیات آنیل در اتمسفر هیدروژن و پس از نشاندن لایه­ای نازک از تنگستن به روش رسوب شیمیایی بخار مطالعه شد. آنیل هیدروژنی در اتمسفر هیدروژن مرطوب و دمای °C ۱۵۰۰ به مدت ۹۰ دقیقه انجام شد. رسوب شیمیایی بخار به روش دفن نمونه­ها در بستری از پودر اکسید تنگستن و سپس احیای پودر در اتمسفر هیدروژن مرطوب در °C۱۰۰۰ اجرا شد. ریزساختار سطحی پوشش با استفاده از تصاویر میکروسکوپی الکترونی روبشی، آنالیز شیمیایی طیف­سنجی پراکندگی انرژی، زبری­سنجی مکانیکی و پراش پرتو ایکس ارزیابی شد. نتایج نشان داد که عملیات تکمیلی در نظر گرفته شده قادر است ریخت سطحی را از حالت اکسید شده و زبر به یک ساختار ستونی ظریف با زبری میانگین کم­تر از ۱ میکرومتر تغییر دهد.

کلیدواژه ها:

پاشش پلاسمایی اتمسفری ، رسوب شیمیایی بخار ، آنیل در اتمسفر هیدروژن ، پوشش تنگستنی ، لامپ تولید اشعه ایکس