مدل سازی ریاضی اثر پارامترهای لایه نشانی الکتروشیمیایی با جریان پالسی بروی اندازه دانه پوشش حاصله

سال انتشار: 1391
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 553

فایل این مقاله در 18 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

IMES06_241

تاریخ نمایه سازی: 8 بهمن 1391

چکیده مقاله:

در این پژوهش یک مدل ریاضی برای ارزیابی اثر تغییرات پارامتر های لایه نشانی الکتروشیمیایی با جریان پالسی بر روی اندازه دانه پوششهای نیکل ارائه شده است. در این مدل رابطه تغییرات غلظت یون های فلزی بر روی سطح کاتد را بدست آورده، سپس رابطهتغییرات نرخ جوانه زنی به صورت تابعی بر حسب پارامترهای لایه نشانی الکتروشیمیایی با جریان پالسی بیان شده است. رسم تابع نرخ جوانه زنی بر حسب پارامترهای لایه نشانی الکتروشیمیایی با جریان پالسی ، نشان داده است که با افزایش هر یک از پارامترهای لایه نشانی الکتروشیمیایی با جریان پالسی تا یک مقدار مشخصی کاهش اندازه دانه و سپس افزایش اندازه دانه را داریم. نتایج بدست آمده از مدل با نتایج تجربی بدست آمده از پوشش های نیکل مقایسه شد. خواص سختی سنجی پوششها با دستگاه میکرو سختی سنجی بررسی شده است

کلیدواژه ها:

لایه نشانی الکتروشیمیایی با جریان پالسی ، اندازه دانه ، مدل سازی ریاضی

نویسندگان

هادی مهدیزاده

کارشناسی ارشد نانو مواد دانشگاه صنعتی سهند

فرزاد نصیرپوری

استادیار دانشکده مواد-دانشگاه صنعتی سهند

علیرضا اکبری

استادیار دانشکده مواد-دانشگاه صنعتی سهند

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • K. S. Daragolichet. al., ASM Metals Handbook, Vol. 5, 9th ...
  • Harald Natter, Rolf Hempelmann, "Tailor-made nanomaterias designed by electro chemical ...
  • A. M. El-sherik. U. Erb, Synthesis, Structure and Properties of ...
  • M. S _ Chanderasekar, M alathyPushp avanam, Pulse and pulse ...
  • N. Ibl, Some theoretical aspects of pulse electrolysis, Surface Technology, ...
  • J. Cl. Puippe, N.Ibl, Influence of charge and discharge of ...
  • R. T. C. Choo, J. M. Togari, A. M. Elsherik, ...
  • e lectro crystallization analyse _ f nanocrystalline nickel production by ...
  • Puippe, J.CI, The morphology of pulse-plated deposits, plating and surface ...
  • Yuan Xuetao, Wang Yu, Sun Dongbai, Yu Hongying, Influence of ...
  • Rehrige, Leidheiser, Notis, The influence of the current Waveform on ...
  • Hosokawa, _ Angere, H., puippe, J.Cl., and Ibl, N., Pulse-plated ...
  • Yoshimura, S., chida, S., Sato, E, , and Kuboata, N., ...
  • Sutter, B., Pulsed e lectrodepo sition of nickel and chromium, ...
  • Abdulin, v. S., and Chermenko, v.I. _ Current yield and ...
  • Devaraj, S.G., and Seshadri, S. K, Pulsed elec trodeposition of ...
  • Pattsch, W., Pulsed electroposition ofzinc and cadmium, in theory and ...
  • K. P. Wong, K. C. Chan, T. M. Yue, A ...
  • K. P. Wong, K. C. Chan, T. M. Yue, A ...
  • K. P. Wong, K. C. Chan, T. M. Yue, Influence ...
  • A. Milchev, Fundamentas ofnucleation and growh, Kluwer academic publishers, 2002. ...
  • C. Kollia, N. Spyrellis, Texural modification in nickel eletrodepos ition ...
  • نمایش کامل مراجع