بررسی خواص ساختاری و اپتیکی پوشش های نانوساختاری لایه نازک اکسید روی در ضخامتهای متفاوت

نانو ساختارهای اکسید روی با کیفیت بالا با استفاده از پودر خالص فلز روی و روش ساده تبخیر حرارتی، روی زیرلایه سلیکوننشانده شدهاست. ضخامت لایه ها از ۵۰ تا ۱۵۰ نانومتر تغییر میکند. سپس لایههای نازک روی جهت اکسید شدن، به درون یککوره حرارتی لولهای در دمای ۷۰۰ درجه به مدت ۳۰ دقیقه برده میشوند. خواص ساختاری لایه های نازک اکسید روی با استفادهاز طیف تابشی پرتو ایکس ) XRD (و میکروسکوپ الکترونی روبشی ) SEM ( موردبررسی قرار گرفت. نتایج حاصل از طیف تابشپرتو ایکس شکل شش وجهی.ورتزیت را برای این روش تایید میکند و نشان میدهد که دارای ساختار چندبلوری است. اندازهبلورکها، با افزایش ضخامت لایه ها افزایش می یابد. با استفاده از طیف سنج جذبی مرئی فرابنفش ) - UV-Vis (، طیف اپتیکیعبوری نمونه تعیین و نشان میدهد بیشترین عبور حدود ۹۰ درصد درون ناحیه مرئی و فرابنفش است. باند گپ لایههای نازک،بین ۳,۳ تا ۳,۲ الکترون ولت به ترتیب برای ضخامتهای ۵۰ تا ۱۵۰ نانومتر به دست آمد. با استفاده از طیف سنجی –فوتولومینسانس با تابش موج برنگیخته در ۳۲۵ نانومتر، طیف نشری لایه ها اندازه گیری شدند و یک قله در طول موج ۳۶۵ تا ۳۶۸نانومتر مشاهده شده است. نتایج نشان میدهد ضخامتهای متفاوت دارای خواص اپتیکی و ساختاری متفاوت هستند.

کلیدواژه ها:

اکسید روی ، لایه نازک ، نانوساختار ، خواص اپتیکی ، تبخیر حرارتی