تأثیر عملیات حرارت دهی بر روی ساختار و موفولوژی سطح لایه های نازک

در این تحقیق لایه های نازک اکسید ایندیوم آلاییده با قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی بستره شیشه ای در دمای اتاق تهیه شده اند. لایه ها پس از انباشت در دماهای مختلف، گستره 200-450 درجه سانتیگراد در مجاورت هوا و به مدت یک ساعت حرارت دهی شده اند. تأثیر عملیات حرارت دهی بر روی ساختار لایه ها و همچنین مورفولوژی سطح آنها مورد بررسی قرار گرفته است. نتایج طیفهای XRD تغییر ساختار لایه های آمورف (قبل از حرارت دهی) به فاز بلوری را تأیید می کنند. قله شدت پیشینه به جهت گیری ترجیهی صفحه (222) مربوط می شود که در زاویه 30/5=20 درجه سانتیگراد اتفاق می افتد و سایر قله ها در صفحات (211)، (440) و (622) مشاهده می شوند. نتایج اندازه گیری های مسکروسکوپ نیرو اتمی (AFM) تغییر ماهواره ای سطوح لایه ها بر اثر دمای بازپخت را نشان می دهند. همچنین، نمای ناهمواری لایه ها، a، که از طریق تابع وابستگی ارتفاع- ارتفاع محاسبه شده است. در گستره 0/91-0/74 (نزدیک به واحد) قرار دارد. بیشنه ناهمواری سطح (rms) و کمینه a مربوط به لایه باز پخت شده در دمای 350 درجه سانتیگراد می باشد.

کلیدواژه ها:

لایه های نازک ، بازپخت ، مورفولوژی (ریخت شناسی) ، اکسید ایندیوم قلع (ITO)