تاثیر پتانسیل بر عیوب نقطه ای تشکیل شده در لایه رویین فولاد زنگ نزن AISI 316 L
سال انتشار: 1389
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,315
فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IMES04_008
تاریخ نمایه سازی: 22 مرداد 1391
چکیده مقاله:
آزمون موت-شاتکی یکی از روش های تعیین نوع -n و یا نوع -p بودن رفتار نیمه هادی لایه رویین و بررسی عیوب موجود در آن است. در این تحقیق ، تاثیر پتانسیل بر عیوب نقطه ای تشکیل شده در لایه رویین فولاد زنگ نزن L 316 در محلو 0/05 مولار اسید سولفوریک برررسی شد. برای تشکیل لایه رویین در بازده پتانسیلی 0/2- تا 0/8VSCE ، فاصله ها 0/1V انتخاب و نمونه ها در پتانسیل های تشکیل مربوطه به مدت 60 دقیقه نگه داری شدند. نتایج آزمون موت- شاتکی نشان داد که رفتار نیمه هادی لایه رویین تشکیل شده تا پتانسیل 0/6VSCE ، به علت چگالی بیش تر دهنده های الکترونی (ND) نسبت به گیرنده های الکترونی (NA) ، نوع -n میباشد . در حالی که در پتانسیل های بالاتر ، به علت افزایش انحلال کاتیون های آهن و کروم که منتج به افزایش چگالی جاهای خلی کاتیونی می شود و همچنین کاهش غلظت بین نشین های کاتیونی ، رفتار نیمه هادی لایه رویین به نوع -p تبدیل شد. همچنین نتایج آزمون موت- شاتکی نشان داد که با افزایش پتانسیل لایه رویین تا 0/6VSCE ، مقادیر چگالی دهنده های الکترونی به طور توانی کاهش می یابد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
آرش فتاح الحسینی
استادیار ، دانشگاه بوعلی سینا همدان
احمد ساعتچی
استاد ، دانشگاه صنعتی اصفهان
محمد علی گلعذار
استاد ، دانشگاه صنعتی اصفهان
کیوان رئیسی
دانشیار ، دانشگاه صنعتی اصفهان
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :