بررسی تاثیر جریان پالسی بر کاهش ضخامت لایه های نازک نانومتری مس/نیکل تولید شده به‌‌وسیله فرایند آبکاری الکتریکی

پوشش های چند لایه فلزی در سالهای اخیر بطور چشمگیری مورد توجه قرار گرفته‭اند که این به دلیل خواص الکتریکی، مغناطیسی و مکانیکی مطلوب آنهاست. در این تحقیق آبکاری الکتریکی لایه های نازک نانومتری مس/ نیکل مورد بررسی قرار گرفت. لایه های نازک نانومتری که در آنها یک لایه مغناطیسی باشد و لایه مجاور غیر مغناطیسی باشد دارای خاصیت ابررسانائی مغناطیسی (GMR) هستند و در ساخت هدهای کامپیوتر از آنها استفاده می شود. در این پژوهش برای آبکاری لایه های نیکل از حمام واتس و برای آبکاری لایه های مس از حمام اسیدی سولفات مس استفاده شد. با بهینه سازی شدت جریان و زمان آبکاری که از پارامترهای مهم این فرآیند می باشند لایه های نازک نانومتری نیکل (50 نانومتر) و مس (100 نانومتر) ساخته شد و با استفاده از میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM) ساختار آنها مورد بررسی قرار گرفت. نتایج حاصل از آبکاری با جریان پالسی حاکی از این بود که با اعمال یک جریان پالسی مطلوب می توان زمان بحرانی پوشش دهی و در نتیجه ضخامت لایه ها را تا کاهش داد.

کلیدواژه ها:

آبکاری الکتریکی ، لایه های نانومتری ، زمان بحرانی ، جریان پالسی