مقایسه پوششهای نانوکریستالی نیکل-تنگستن رسوب داده شده به روش پالس و جریان مستقیم

در این تحقیق پوششهای نانو کریستالی نیکل - تنگستن از حمام واتز ، توسط جریان مستقیم و پالس بر روی زیر لایه مسی رسوب الکتریکی داده شد. پوشش دهی در چگالی جریانهای ٥/٧ و٣٠و۷٠ mA/cm2 در دمای محیط انجام شد. آزمون تفرق اشعه ایکس نشان داد که پوششهای حاصل محلول جامد تنگستن در نیکل می باشند. اندازه دانه های پوشش با استفاده از قانون شرر در حدود 22-15 نانومتر محاسبه شد. مشاهدات انجام شده توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی نشان دادند مورفولوژی با تغییر دانسیته جریان تغییر کرده و مورفولوژی پوششهای بدست آمده از روش پالس یکنواخت تر بودند. آزمون پلاریزاسیون تافل برای بررسی رفتار خوردگی این پوششها درمحیط ٥/٣% وزنی کلرید سدیم انجام شد،مطالعات نشان داد که پوشش های حاصل از روش جریان مستقیم با وجود درصد تنگستن کمتر اما رفتار خوردگی بهتری در مقایسه با دیگر پوششها دارند ، که این امر بدلیل پایین بودن دانسیته جریان جزئی احیاء آب در حضور اکسیژن بر روی این پوششها می باشد. برای تعیین درصد تنگستن درپوشش از آنالیز EDAX استفاده شد و در صد تنگستن پوشش در محدوده ٤‐١٥در صد اتمی بدست آمد .

کلیدواژه ها:

پوشش ، نانو کریستال ، نیکل-تنگستن ، رسوب الکتریکی ، مقاومت خوردگی