رشد نانوتیوبهای کربنی بر روی زیر لایه سیلیکان و کوارتز با روش رسوب دهی بخار شیمیایی پلاسمایی PECVD) جهت کاربرد در میکرو الکترونیک

نانو تیوبهای کربنی با استفاده از روشCCVD و PECVDرشد داده میشوند و اثر دما و مدت زمان آزمایش و نوع زیر لایه بر روی فرآیند رشد مورد بررسی قرار می گیرد. نانوتیوبها برای رشد نیاز به نانوذرات کاتالیست به عنوان مراکز هسته بندی با قطر در حد نانومتر دارند که این نانو ذرات با استفاده از عملیات گرمائی و زدایش بر روی لایه نازک کاتالیست بدست می آیند نانو تیوبها بصورت نامنظم بر روی این جزایر نانو متری رشد می کنند و قطر این جزیره ها تعیین کننده قطر نانو تیوب می باشد. در این مقاله نشان می دهیم که قطر جزایر نانومتری به ضخامت اولیه کاتالیست بستگی دارد و زمان انباشت طول آنها را کنترل می کند