مقایسه خواص اکسیداسیون هم دما و شوک حرارتی پوشش CoNiCrAlY اعمال شده با استفاده از فرایندهای پاشش پلاسمایی اتمسفری و پاشش پلاسمایی تحت گاز محافظ نیتروژن

در این پژوهش خواص پوشش اعمال شده توسط فرایند پاشش پلاسمایی معمولی و با دوش گاز خنثی بررسی و مقایسه شد، بدین صورت که قطعه دوش به تفنگ پلاسما الحاق گردید تا با خروج گاز خنثی نیتروژن از دوش، جت پلاسما را در برابر ورود اکسیژن اتمسفر حفاظت نماید. مشخصه یابی ریزساختاری پوشش ها با استفاده از میکروسکوپ نوری و میکروسکوپ الکترونی روبشی مجهز به طیف سنج پراش انرژی انجام شد. سختی پوشش ها نیز به روش ویکرز و تحت نیروی ۳۰ گرم اندازه گیری شد. آزمون های اکسیداسیون هم دما و شوک حرارتی به ترتیب در دماهای ۱۰۰۰ و ºC ۹۵۰ انجام گرفتند. نتایج حاصل بعد از پاشش نشان می­دهند که استفاده از گاز محافظ نیتروژن مفید بوده و پوشش حاصل با استفاده از دوش نیتروژن دارای اکسید و تخلخل کمتر (میزان ۵ درصد) و ساختار همگن تری است. نتایج مربوط به اکسیداسیون هم­دما نشان داد سرعت رشد لایه TGO در نمونه پاشش شده با دوش نیتروژن کمتر است. آزمون شوک حرارتی نشان داد که نمونه پاشش شده با دوش نیتروژن به واسطه رشد لایه­لایه و منظم TGO و همچنین میزان اکسید و تخلخل کمتر نسبت به نمونه پاشش شده بدون دوش نیتروژن، از مقاومت بیشتری برخوردار است. همچنین ریزسختی پوشش پاشش شده بدون دوش نیتروژن میزان ۳۵ ویکرز بیشتر از پوشش ایجادشده با دوش نیتروژن است.

کلیدواژه ها:

پوشش تک لایه CoNiCrAlY ، پاشش پلاسمایی اتمسفری ، پاشش پلاسمایی با دوش گاز خنثی ، اکسیداسیون هم دما ، شوک حرارتی