مطالعه بهینه سازی سطوح توسط کندوپاش مگنترونی در پلاسمای فشار پائین و کاربردهای صنعتی آن

در این مقاله علاوه بر توصیف پلاسماهای فشار پائین و خلا، روش های مختلف لایه نشانی و اصلاح سطوح از جمله رسوب دهی شیمیائی بخار CVDورسوبدهی فیزیکی بخار PVDمطالعه شده است. در ادامه رسوب دهی شیمیائی بخار از طریق پلاسما در پلاسماهای تحت فشار پائین و خلا با ذکر امتیازات آن نسبت بهدو مورد قبلی توضیح داده شده است. در نهایت به بهینه سازی اصلاح سطح با کندوپاش پلاسمائی پرداخته شده و نشان داده می شود که ضخامت لایه با ولتاژ اعمالینسبت مستقیم داشته و با شدت جریان و میدان مغناطیسی نسبت عکس دارد.

کلیدواژه ها:

پلاسمای فشار پایین ، کندوپاش ، مگنترون ، ضخامت لایه