بهبود مقاومت به اکسایش تیتانیم به کمک آلیاژسازی سطحی آن با Si

فرایند قوس تنگستن TIG جهت آلیاژسازی سطحی تیتانیم خالص تجاری CP-Ti با سیلیسیم مورد استفاده واقع شد و لایه های آلیاژی سطحی برمبنایترکیب بین فلزی Ti5Si3 حاصل گردید بکمک تغییر حرارت ورودی عمق و پهنا و میزان سیلیسیم لایه های آلیاژی کنترل شد بررسی لایه های آلیاژی با میکروسکوپ نوری و الکترونی روبشی پراش سنجی پرتوایکس سنجش شدت انرژی طیف پرتو x سنجش سختی میکروسکوپی و ازمایش اکسایش تکدما صورت پذیرفت بررسی ها نشان داد که ساختار لایه های آلیاژ شده سطحی به صورت انجماد دندریتهای a - Ti همراه با مناطق بین دندریتی با مورفولوژی یوتکتیکی برمبنای a - Ti + Ti5Si3 می باشد که با افزایش میزان سختی آنها نسبت به زیرلایه تا حدود 5 برابر شده است همچنین اکسایش نمونه های آلیاژ شده سطح یدر دمای 900 درجه نشان از مقاومت به اکسایش بهتر آنها نسبت به زیرلایه داشت که محتملا به علت سرعت کمتر نفوذ اکسیژن درترکیبات بین فلزی و اکسید متراکم شده به سیلیسیم می باشد.

کلیدواژه های بهبود مقاومت به اکسایش تیتانیم به کمک آلیاژسازی سطحی آن با Si:

آلیاژ سازی سطحی ، اکسایش ، تیتانیم خالص تجاری ، قوس تنگستن