اثر محلول پاشی اسیدسالیسیلیک، سیلیکات پتاسیم و الیسیتور قارچی در شرایط تنش شوری بر گیاه همیشه بهار (Calendula officinalis L.)

چکیده به منظور بررسی تاثیر اسید سالیسیلیک، سیلیکات پتاسیم و الیسیتور قارچی در گیاه همیشه بهار در شرایط تنش شوری آزمایشی بصورت فاکتوریل و در قالب طرح تصادفی با سه سطح شوری (۶۰۰-۳۰۰-۰ پی­پی­ام) و سه سطح تیماری، اسید سالیسیلیک، سیلیکات پتاسیم و الیسیتور قارچی (۹۰۰-۶۰۰-۳۰۰ پی پی­ام) در ۳ تکرار انجام شد. صفاتی چون حجم ریشه، قطر ریشه، تعداد و ارتفاع برگ، هیدروژن پر اکسید و آنزیم کاتالاز اندازه گیری شد. نتایج نشان داد، بیشترین میزان هیدرون پر اکسید در تیمار سیلیکات پتاسیم با غلظت ۳۰۰ پی­پی­ام به میزان ۶۸/۷۷ نانومول بر گرم وزن تر مشاهده گردید. بیشترین مقدار آنزیم کاتالاز در شوری ۶۰۰ پی­پی­ام به میزان ۰۰۵۸۴/۰ میلی گرم پروتئین در دقیقه حاصل شد. میانگین تعداد برگ در تیمار سیلیکات پتاسیم از سایر تیمارها بیشتر بوده است. کمترین قطر ریشه در بستر با شوری ۶۰۰ پی­پی­ام در غلظت ۳۰۰ پی­پی­ام الیسیتور قارچی پنیسیلیوم با مقدار ۶۱/۰ میلی­متر دیده شد. در غلظت ۹۰۰ پی­پی­ام در بستر بدون شوری بیشترین قطر ریشه با مقدار ۰۸/۱ میلی­متر مشاهده شد.

کلیدواژه ها:

اسید سالیسیلیک ، الیسیتور ، سیلیکات پتاسیم ، شوری ، همیشه بهار