بررسی اثر فاصله نازل تا زیرلایه بر مورفولوژی لایه های متخلخل روی اکسید-پلیمر تهیه شده به روش التراسونیک مرطوب

روی اکسید نیمه رسانایی پرکاربرد در زمینه های مختلف از جمله کاتالیست ها و فتوکاتالیست ها است. در این مقاله با استفاده از روش التراسونیک مرطوب لایه های نازک روی اکسید – پلیمر بر روی بستر های شیشه ای رسوب گذاری شده اند . این لایه های نازک از نشستن بخار سرد محلول استات روی-پلیمر بر روی زیر لایه های شیشه ای در دمای C ° 400 تشکیل شده اند و هیچگونه باز پختی صورت نگرفته است. تاثیر فاصله نازل تا زیرلایه بر مورفولوژی سطح لایه ها بطور مدون از طریق میکروسکوب روبشی الکترونی و کانفوکال بررسی شده است. ماکروساختار سطج نمونه ها با افزایش فاصله نازل یکنواختی خود را از دست داد و زبری سطح در مقیاس ماکرو افزایش یاخت. اما میکروساختارها در فاصله 6 سانتی متر بهترین یکنواختی را نشان داد. اثرات پلیمر در ایجاد تخلخل در نمونه ها نیز توسط تصاویر SEM بخوبی مشاهده گردید. لایه های نازک متخلخل ZnO که به روش آسان تهیه شده اند، می توانند کاربردهای فراوانی بعنوان کاتالیست و فتوکالیست در زمینه های مختلف از جمله صنایع گاز و پتروشیمی داشته باشند.

کلیدواژه ها:

لایه نشانی التراسونیک مرطوب ، لایه نازک روی اکسید ، مورفولوژی ، مزومتخلخل ، کاتالیست