بهبود پدیده انتقال جرم در سنسور میکروسیالاتی مبتنی بر ترانزیستور اثر میدان حساس به یون
محل انتشار: اولین کنفرانس میکروالکترونیک ایران
سال انتشار: 1398
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 651
فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICMCONF01_045
تاریخ نمایه سازی: 19 اسفند 1398
چکیده مقاله:
در طول سال های اخیر علاقه زیادی به توسعه سنسورهای مبتنی برترانزیستورهای اثر میدان حساس به یون (ISFET) نشان داده شده است. این سنسورها در زمینه مهندسی زیست، شیمی و غیره کاربردهای مختلفی پیدا کرده اند. در این مقاله عملکرد بیوسنسور مبتنی بر ISFET که در داخل یک کانال میکروسیالاتی قرار گرفته است، مورد بررسی قرار می گیرد. با شبیه سازی این سنسور در محیط نرم افزار COMSOL ، نمودارهای جریان-ولتاژ در حالت های مختلف بررسی شده است. در این پژوهش با بررسی پدیده انتقال جرم در داخل میکروکانال عملکرد سنسور ISFET بهبود می یابد. پس از برررسی مشکل انتقال جرم در سیستم های میکروسیالاتی، قادر هستیم با قرار دادن الکترودهایی در دیواره میکروکانال و اعمال پتانسیل الکتریکی به الکترودها منجر به ایجاد جریان الکترواسموتیک در اطراف سنسور شویم که در نهایت باعث افزایش انتقال جرم آنالیت مورد نظر به سطح سنسور و بهبود عملکرد سنسور می شود.
کلیدواژه ها:
ترانزیستورهای اثر میدان حساس به یون ، ترانزیستورهای اثر میدان نیمه رسانای اکسید فلز ، الکترولیت ، میکروسیالات ، الکترواسموتیک
نویسندگان
رضا حاجی آقایی وفایی
دانشکده فنی مهندسی، دانشگاه بناب، بناب،ایران
امیر آزادی
دانشکده فنی مهندسی، دانشگاه بناب، بناب،ایران