تاثیر ولتاژ و محلول اسیدی بر روی زبری سطح آرایه های اکسید نانومتخلخل آلومینیوم آندی منظم با استفاده از بررسی میکروسکوپ نیروی اتمی

آرایه های منظم اکسید آلومینیم آندی از طریق آندایزینگ دو مرحله ای آلومینیم در الکترولیت های اسیدی و در شرایط مختلفی از ولتاژ و دما تهیه می شوند. این آرایه ها متشکل از دولایه پیوسته و متخلخل با ساختاری شامل شش وجهی های منظم و با حفراتی نانومتری در داخل آن، کاربردهای وسیعی را به عنوان قالب یا تمپلیت در ساخت نانومواد نظیر نانوسیم و یا به عنوان کاتالسیت دارا می باشند. با این وجود در خصوص بررسی زبری سطحی لایه های اکسیدی منظم مطالعات مدون و وسیعی صورت نگرفته است. در این تحقیق، لایه های اکسیدی آلومینیم در سه نوع اسید مختلف شامل اسید سولفوریک، اسید اگزالیک و اسید فسفریک تحت ولتاژهای ثابت به ترتیب 18 ، 40 و 160 ولت در دمای صفر درجه سانتی گراد به روش دو مرحله ای آندایز گردیده و توپوگرافی سطحی این نمونه ها با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمیAFM) و میکروسکوپ الکترونی روبشی مورد بررسی قرار گرفته اند. نتایج نشان می دهند که با افزایش ولتاژ در اسید های مختلف میزان زبری سطح بصورت چشمگیری افزایش می یابد. این تغییرات وابسته به تغییر اندازه قطر حفرات بوده و بطور مستقیم با آن افزایش می یابد.