روش های لایه نشانی شیمیایی نیتراید سیلیکن وبررسی مشخصات هریک از آنها

در این مقاله سه روش لایه نشانی نیتراید سیلیکن با بخار شیمیایی معرفی گردید که عبارتند از :1- لایه نشانی در فشار کم (LP CVD)؛ 2- لایه نشانی به کمک پلاسمای با چگالی زیاد (HDP CVD)؛ 3- لایه نشانی با افزایش پلاسما (PECVD). با استفاده از تبدیل فوریه ی طیف سنجی مادون قرمز (FTIR)، توده ی یون ثانویه ی طیف سنجی (SIMS)، طیف سنجی رادرفور (RBS) وهیدروژن پراکندگی روبه جلوی طیف سنجی، مشخصه های میزان ناخالصی ومیزان استرس هرکدام از روش ها بررسی گردید ومشاهده شد که روش HDP CVD دارای مزیت هایی نسبت بفه دو روش دیگر است. در روش HDP CVD نیتراید سیلیکن در دمای کمتر از 400c لایه نشانی می شود که این دما نسبت به روش LP CVD کمتر است وهمچنین هیدروژن کمتری (ناخالصی کمتر) نسبت به روش PE CVD دارد. نرخ رطوبت روش HDP CVD و LP CVD به طور قابل توجه ای کمتر از روش PE CVD است. میزان استرس روش HDP CVD مشابه روش PE CVD است ولی به اندازه ی روش LP CVD نیست که آزمایشات انجام شده تایید کننده ی این خصوصیات می باشد.