بررسی اثر مقدار نیتروژن بر خصوصیات ساختاری ، فازی و مورفولوژی سطح لایه های نازک نیترید تنگستن

سمیه عسگری; ژاله ابراهیمی نژاد

بررسی اثر مقدار نیتروژن بر خصوصیات ساختاری ، فازی و مورفولوژی سطح لایه های نازک نیترید تنگستن

محل انتشار: فصلنامه علمی فیزیک کاربردی ایران، دوره: 8، شماره: 1

سال انتشار: 1397

نوع سند: مقاله ژورنالی

زبان: فارسی

مشاهده: 350

فایل این مقاله در 13 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

دریافت فایل کامل مقاله

صدور گواهی نمایه سازی
من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

https://civilica.com/doc/964648

شناسه ملی سند علمی:

JR_JAPAZ-8-1_005

تاریخ نمایه سازی: 17 آذر 1398

چکیده مقاله:

لایه های نیترید تنگستن با ساختاری بلوری به روش تبخیر شیمیایی و در غلظتهای مختلفی از گاز نیتروژن در ترکیب گازی آرگون و نیتروژن تولید شد. نتایج بدست آمده نشان می دهد که غلظت نیتروژن در گاز ترکیبی تاثیر بسزایی روی ساختار، فازهای تشکیل شده، مورفولوژی سطح لایه ها و حتی اندازه دانه ها دارد. پراش اشعه ایکس، ساختار بلوری هگزاگونال WN را در نمونه های با غلظت کم نیتروژن )%10N2=، %30N2= و %50N2= (نشان می دهد و لایه ها دارای مورفولوژی غیریکنواخت با سطوحی زبر هستند. در غلظتهای بالاتر نیتروژن(%80N2= و%100N2= ) تغییر فاز رخ می دهد و دو ساختار بلوری مربعی W2N و WNهگزاگونال مشاهده می شود.بنظر میرسد که غلظت نیتروژن در جهت رشد ترجیحی فازهای بلوری نیز تاثیر بسزایی دارد. لایه ها دارای سطوحی صاف و زبری کم می باشند. تصاویر میکروسکوپ پراش الکترونی ساختار ستونی برای غلظتهای کم نیتروژن و ساختار چگال و غیر ستونی را برای غلظتهای بالای نیتروژن نشان می دهد.

کلیدواژه ها:

لایه نازک ، نیترید تنگستن ، فاز کریستالی ، مورفولوژی سطح

نویسندگان

سمیه عسگری

گروه فیزیک .دانشکده علوم پایه .دانشگاه ازاد تهران غرب

ژاله ابراهیمی نژاد

گروه فیزیک - دانشکده علوم پایه - دانشگاه ازاد تهران غرب

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :

Constable C. P., Yarwood J., Munz W.D. Raman Microscopic Studies ...
Hard Coatings . Surf. Coat. Technol., 1999; 116-119(2-3): 155. ...
Becker S.J., Suh S., Wang Sh., Gordon R.G. Highly Conformal ...
Tungsten Nitride Prepared by Atomic Layer Deposition from a Novel ...
Chem. Mater., 2003; 15(15):2969. ...
Marco J.F., Gancedo J.R., Auger M.A., Sanchez O., Albella J.M. ...
stability of TiN, TiAlN and AlN layers in aggressive SO2 ...
Interface Anal., 2005; 37(12): 1082. ...
Glaser A., Surnev S., Netzer F.P., Fateh N., Fontalvo G.A., ...
of vanadium nitride and titanium nitride coatings . Surf. Sci., ...
Huang C.F., Tsui B.Y., Lu C.H. Thermal Stability and Electrical ...
of Tungsten Nitride Gates in Metal–Oxide–Semiconductor Devices . Jpn. J. ...
Phys., 2008; 47(2):872. ...
Chakrapani V., Thangala J., Sunkara M.K. WO3 and W2N nanowire ...
photoelectrochemical hydrogen production . Hydrogen energy, 2009; 34(22): 9050. ...
Wang Z., Liu Z., Yang Z., Shingubara S. Characterization of ...
nitride film and its application to Cu electroless plating . ...
Engineering. 2008; 85:395. ...
Lee C.W., Kim Y.T. High temperature thermal stability of plasma-deposited ...
tungsten nitride Schottky contacts to GaAs . Solid State Electronics, ...
Lee C.W., Kim Y.T., Min S.K. Characteristics of plasma enhanced ...
vapor deposited tungsten nitride thin films . Appl. Phys Lett., ...
Shen Y.G., Mai Y.W., McBride W.E., Zhang Q.C., McKenzie D.R. ...
Characteristics in sputtered tungsten nitride films . Thin Solid Films. ...
Moriwaki M., Yamada T., Harada Y., Fujii S., Fujii S., ...
J., Mori Y. Improved metal gate Process by Simultaneous Gate-Oxide ...
during W/WNx Gate Formation . Jpn. J. Appl. Phys., 2000; ...
Ko A., Han S.B., Lee Y.W., Park K.W. Template-free synthesis ...
characterization of mesoporous tungsten nitride nanoplates. Phys . Chem. Chem. ...
Phys., 2011;13(28): 12705. ...
Levy F., Hones P., Schmid P.E., Sanjines R., Diserns M., ...
Electronic states and mechanical properties in transition metal nitrides . ...
Technol., 1999; 120/121; 284. ...
Chang K.M., Yeh T.H., Deng I.C., Shih C.W. Amorphouslike chemical ...
deposited tungsten diffusion barrier for copper metallization and effects of ...
addition . J. Appl. Phys., 1997; 82(3): 1469. ...
Jiang P.C., Lai Y.S., Chen J.S. Dependence of crystal structure ...
function of WNx films on the nitrogen content . Appl. ...
Bereznai M., Toth Z., Caricato A.P., Fernández M., Luches A., ...
Mengucci P., Nagy P.M. Reactive pulsed laser deposition of thin ...
tungsten-nitride films . Thin Solid Films. 2005; 473(1): 16. ...
Nitridation of fine grain chemical vapor ...
deposited tungsten film as diffusion barrier for aluminum metallization . ...
Phys., 1997; 81(8): 3670. ...
Eizenberg M., Meyer F., Benhocine A., Bouchier D. Reactive-ion-beamsputtered ...
WNx films on silicon: Growth mode and electrical properties . ...
Phys., 1994; 75(8): 3900. ...
Yamamoto T., Kawate M., Hasegawa H., Suzuki T. Effects of ...
Concentration on Microstructures of WNX Films Synthesized by Cathodic Arc ...
Method . Surf. Coat. Technol., 2005; 193(1-3): 372. ...
Etaii G.R., Hosseinnejad M.T., Ghoranneviss M., Habibi M., Shirazi M. ...
Deposition of tungsten nitride on stainless steel substrates using plasma ...
device . Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B. ...
Bystrova S., Aarnink A.A.I., Holleman J., Wolters R. Atomic Layer ...
Deposition of W1.5N Barrier Films for Cu Metallization . J. ...
Lu J.P., Hsu Y., Luttmer J.D., Magel L., Tsai H.L. ...
Depositing Tungsten Nitride Thin Films . J. Electrochem. Soc., 1998; ...
Tsai M.H., Chiu H.T., Chuang S.H. Metalorganic chemical vapor deposition ...
of tungsten nitride for advanced metallization . Appl. Phys. Lett., ...

نمایش کامل مراجع