Permutation Entropy as a Parameter of Characterizing the Surface of a Thin Film
محل انتشار: نشریه متدهای شیمیایی، دوره: 4، شماره: 2
سال انتشار: 1398
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 525
فایل این مقاله در 9 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_CHM-4-2_005
تاریخ نمایه سازی: 17 آذر 1398
چکیده مقاله:
In this work, silver thin films were prepared using sputtering at different deposition times with the nanoscale thickness. To investigate their surface morphology, atomic force microscopy (AFM) and scanning electron microscopy (SEM) were employed. The surface topography of the samples studied using the AFM. The results revealed that, the roughness of the thin films enhanced by increasing the sputtering time. The permutation entropy (PE) was introduced as an interesting parameter to characterize the surface morphology. At the best of our knowledge, it is the first time one uses the PE for characterizing the thin films. Although the roughness might always enhance by increasing the film thickness, it was not the case for PE. The PE was found to be an independent parameter for characterizing the surface of thin film.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
Mohammad Reza Zamani Meymian
School of physics, Iran University of Science and Technology (IUST), ۱۶۸۴۶-۱۳۱۱۴, Tehran, Iran
Rouhollah Haji Abdolvahab
School of physics, Iran University of Science and Technology (IUST), ۱۶۸۴۶-۱۳۱۱۴, Tehran, Iran
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :