بررسی نظری تاثیر ضخامت لایه آلایش شده بر خواص ترابری الکتریکی گاز الکترون دو بعدی در ساختار ناهمگون Si/SiGe

سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 248

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

IPC93_450

تاریخ نمایه سازی: 5 آذر 1398

چکیده مقاله:

در این تحقیق به مطالعه نظری داده های تجربی وابستگی دمایی تراکم و تحرک گاز الکترون دو بعدی (2DEG) در نمونه های Si/SiGe، که در مقدار ضخامت لایه آلایش یافته متفاوتند، بر مبنای سازوکار های پراکندگی حامل ها پرداخته ایم. نتایج حاکی از غالب بودن پراکندگی فونونی در محدوده دماهای بالا است اما در دماهای پایین معلوم شد که کنترل تحرک الکترونی عمدتا به عهده ناخالصی های یونیده بار فصل مشترک بوده و این تاثیر پذیری با توجه به تراکم ناخالصی ها در نمونه ی با لایه آلاییده ضخیم تر در حدود 2 برابر بیشتر از نمونه ی با لایه آلاییده باریک تر است.

نویسندگان

کوثر رضوانی

دانشکده فیزیک دانشگاه آزاد اسلامی واحد ساری.

حسین عشقی

دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شاهرود

نسرین صالحی

دانشگاه آزاد اسلامی واحد شاهرود.