بررسی پاسخ نوری غیرخطی و غیرموضعی لایه های نازک نانوساختار مس
محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران 1393
سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 314
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IPC93_309
تاریخ نمایه سازی: 5 آذر 1398
چکیده مقاله:
در این پژوهش، لایه های نازک نانوساختار مس با استفاده از روش لایه نشانی لیزر تپی (PLD) تهیه شده است. طیف جذب نوری لایه ها به روش بیناب سنجی وساختار نانویی آنها با استفاده از روش SEM مورد بررسی قرار گرفته است. هم چنین خواص نوری غیرخطی لایه ها با روش روبش-z و استفاده ازروبش- zغیرموضعی تعمیم یافته مورد مطالعه قرار گرفته است. در این مقاله، نشان داده شده است که روبش- z غیرموضعی می تواند به طور موثری برای به دست آوردن مقادیردقیق پارامترهای غیرخطی لایه های نازک که ساختار نانو آن ها تعیین کننده پاسخ غیرموضعی می باشد، استفاده شود.
نویسندگان
اسماءالسادات معتمدی
پژوهشکده لیزر و اپتیک، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای، تهران
یاسمن گلیان
پژوهشکده لیزر و اپتیک، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای، تهران
محمدرضا رشیدیان وزیری
پژوهشکده لیزر و اپتیک، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای، تهران
فرشته حاج اسماعیل بیگی
پژوهشکده لیزر و اپتیک، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای، تهران