بررسی پاسخ نوری غیرخطی و غیرموضعی لایه های نازک نانوساختار مس

سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 258

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

IPC93_309

تاریخ نمایه سازی: 5 آذر 1398

چکیده مقاله:

در این پژوهش، لایه های نازک نانوساختار مس با استفاده از روش لایه نشانی لیزر تپی (PLD) تهیه شده است. طیف جذب نوری لایه ها به روش بیناب سنجی وساختار نانویی آنها با استفاده از روش SEM مورد بررسی قرار گرفته است. هم چنین خواص نوری غیرخطی لایه ها با روش روبش-z و استفاده ازروبش- zغیرموضعی تعمیم یافته مورد مطالعه قرار گرفته است. در این مقاله، نشان داده شده است که روبش- z غیرموضعی می تواند به طور موثری برای به دست آوردن مقادیردقیق پارامترهای غیرخطی لایه های نازک که ساختار نانو آن ها تعیین کننده پاسخ غیرموضعی می باشد، استفاده شود.

نویسندگان

اسماءالسادات معتمدی

پژوهشکده لیزر و اپتیک، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای، تهران

یاسمن گلیان

پژوهشکده لیزر و اپتیک، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای، تهران

محمدرضا رشیدیان وزیری

پژوهشکده لیزر و اپتیک، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای، تهران

فرشته حاج اسماعیل بیگی

پژوهشکده لیزر و اپتیک، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای، تهران