بررسی اثر دمای زیرلایه بر خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی در نانوساختارهای اکسید مس (CuO) تهیه شده به روش افشانه تجزیه حرارتی

لایه های نازک اکسید مس از محلول اولیه استات مس با روش مقرون به صرفه افشانه تجزیه حرارتی بر روی زیرلایه شیشه در دماهای 315، 375 و 440ºC لایه نشانی شدند. آنگاه نمونه ها با استفاده از تصاویرFESEM٬ طیف های XRD و طیف سنجی نوری UV-Vis مورد مشخصه یابی قرار گرفتند. دریافتیم کلیه نمونه ها به صورت میکرو و نانو ساختار های بس بلوری متنوع در جهت های اصلی (002) و (111) رشد یافته اند. در بین این نمونه ها٬ نمونه رشد یافته در دمای °C 440 از شرایط بهینه ساختاری (بزرگترین ابعاد بلورکی و کمترین تراکم نواقص بلوری) و نمونه رشد یافته در دمای 315°C از شرایط بهینه اپتیکی (کوچکترین گاف نواری و بیشترین جذب نوری) برخوردار است.