مدلسازی عددی جریان انتقال حرارت مخلوط و تولید آنتروپی یک نانوسیال به همراه میدان مغناطیسی در حفره دارای مانع

سال انتشار: 1398
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 286

نسخه کامل این مقاله ارائه نشده است و در دسترس نمی باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ISME24_603

تاریخ نمایه سازی: 21 مهر 1398

چکیده مقاله:

در این مقاله مسئله انتقال حرارت مخلوط و تولید آنتروپی در حفره با درپوش متحرک و در حضور میدان مغناطیسی و مانعی مربعی شکل، مورد مطالعه قرار گرفته است. معادلات حاکم بر مسئله شامل پیوستگی، ممنتم و انرژی توسط کد نوشته شده به زبان سی پلاس پلاس و با استفاده از الگوریتم سیمپل حل شده اند. اثر پارامترهایی نظیر کسر حجمی نانوسیال، عدد هارتمن و عدد ریچاردسون بر فرایند خنک کاری مانع داغ درون حفره و تولید آنتروپی، بررسی شده است. نتایج نشان میدهد در همهی حالتها افزایش کسر حجمی نانوسیال موجب افزایش عدد ناسلت متوسط روی مانع و همچنین افزایش مقدار تولید آنتروپی متوسط خواهد شد. همچنین عدد ناسلت روی مانع با افزایش عدد ریچاردسون تا قبل از عدد ریچاردسون برابر با 1 تغییر چندانی نخواهد داشت در حالیکه برای اعداد ریچاردسون بزرگتر از 1، شیب تغییرات ناسلت بر حسب ریچاردسون قابل توجه خواهد بود. علاوه بر این افزایش عدد هارتمن به طور کلی موجب کاهش ضریب انتقال حرارت جابجایی روی سطح و همچنین کاهش مقدار تولید آنتروپی متوسط می شود

نویسندگان

امین حقیقی پشتیری

رشت، دانشگاه گیلان

پویا پورکاشانی

رشت، دانشگاه گیلان

علی گودرزی

رشت، دانشگاه گیلان