اثر حضور پلی آکریلیک اسید در لایه نگهدارنده غشا لایه نازک بر عملکرد اسمز مستقیم غشا در نمک زدایی از آب

سال انتشار: 1397
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 490

فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

NICEC16_353

تاریخ نمایه سازی: 7 خرداد 1398

چکیده مقاله:

غشاهای لایه نازک کامپوزیتی پلی آکریلیک اسید به روش پلیمریزاسیون سطحی مونومر آکریلیک اسید بر روی زیر لایه پلی اترسولفون ساخته و به منظور نمکزدایی از آب طی فرآیند اسمز مستقیم بکار گرفته شدند. غشا نگهدارنده بر پایه پلی اترسولوفون با کمک روش جدایش فازی ساخته شد. به منظور تامین دوام لایه نازک در برابر انحلال لایه نازک پلی آکریلیک اسیدی در محیطی آبی، پیوند دهنده عرضی اتیلن گلیکول به محلول پلیمریزاسیون افزوده و همچنین از غشا پایه کامپوزیتی پلی اترسولفون/پلی آکریلیک اسید به جای غشا پلی اترسولفون متداول استفاده گردید. طیف سنج مادون قرمز تبدیل فوریه غشا نگهدارنده به خوبی حضور پلیمر آکریلیک اسید در ساختار غشا پایه پلی اترسولوفون رو اثبات نمود. به منظور بررسی خواص و ساختار غشاهای تهیه شده از تصاویر سطحی و مقطع عرضی میکروسکوپ الکترونی روبشی و دستگاه اندازه گیری زاویه تماس آب استفاده شد و عملکرد غشاها در نمکزدایی از آب نیز با بررسی دو پارامتر میزان تراوش پذیری آب و شار نمک برگشتی مورد ارزیابی قرار گرفت. حضور پلی آکریلیک اسید در لایه محافظ باعث چسبندگی بهتر لایه نازک بر روی پایه و در نتیجه پایداری غشا و بهبود عملکرد گردید.

کلیدواژه ها:

غشاء لایه نازک پلیمری ، پلی آکریلیک اسید ، نمک زدایی از آب ، اسمز مستقیم

نویسندگان

نگین قائمی

استادیار گروه مهندسی شیمی، دانشگاه صنعتی کرمانشاه، کرمانشاه، ایران

پریسا دارائی

استادیار گروه مهندسی شیمی، دانشگاه صنعتی کرمانشاه، کرمانشاه، ایران

احسان امیری

دانشجوی کارشناسی ارشد مهندسی شیمی، دانشگاه صنعتی کرمانشاه، کرمانشاه، ایران