کنترل و بهینه سازی اشعه ایکس سخت گسسته از پلاسمای تولید شده توسط لیزر پالسی پرتوان با استفاده از هدف نانوساختار

پلاسماهای تولید شده از لیزرهای پالسی پرتوان منابع درخشان اشعه ایکس خطی هستند، که دارای کاربردهای گسترده ای در زمینه های مختلف علوم و فنون همچون علم مواد، پزشکی، لیتوگرافی و لیزرهای اشعه ایکس می باشد. در این مقاله به منظور افزایش گسیل خطی اشعه ایکس سخت از پلاسمای تولید شده توسط لیزر نانوثانیه پرتوان، یک هدف فلزی نانوساختار به کار رفته است. هیدرودینامیک پلاسما توسط کد کامپیوتری EHYBRID شبیه سازی شده است. سپس طیف گسسته اشعه ایکس بر حسب طول موج از معادلات "Saha-Boltzman" در زمان های مختلف تابش دهی محاسبه شده و میزان گسیل کلی اشعه ایکس در بازه طول موجی 0.1-1 nm محاسبه گردیده است. محاسبات نشان می دهند با انتخاب یک چگالی مناسب برای لایه نانوئی، افزایش قابل توجهی در گسیل اشعه ایکس سخت گسسته، حاصل خواهد شد. همچنین افزایش شدت لیزر تابشی موجب افزایش بیشتر تابش اشعه از هدف نانوساختار می شود.