اثر نقص های استون-ولز و تهی جای بر رسانش نانو لوله های کربنی

سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,569

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

IPC88_118

تاریخ نمایه سازی: 28 دی 1388

چکیده مقاله:

در این مقاله به بررسی اثرات نقص های استون-ولز و تهی جای روی رسانش الکتریکی نانو لوله های تک دیواره کربنی پرداخته ایم. رسانش نانو لوله ها در فرمول بندی ترابرد همدوس با هامیلتونی بستگی قوی تک نواری و توابع گرین سطحی و محاسبه ماتریس های انتقال بروش تکرار صورت پذیرفته است. برای درنظر گرفتن اثرات مغناطیسی مربوط به نواقص تهی جای هامیلتونی کانال به کمک مدل میدان موثر هابارد به روش حل خود-سازگار محاسبه شده است. اثرات پراکندگی الکترون توسط این نواقص در کانال به دلیل تداخل امواج الکترونی عموماً سبب کاهش جریان های عبوری از کانال می شود و اثرات مغناطیسی در کانال نیز سبب جدایی کوچکی بین جریان های اسپینی می شود که این قطبیدگی با مغناطش ایجاد شده در کانال متناسب است.

نویسندگان

روح اله فرقدان

گروه فیزیک ، دانشگاه تربیت مدرس

علیرضا صفارزاده

گروه فیزیک ، دانشگاه پیام نور تهران ، پژوهشکده علوم نانو ، پژوهشگاه د

اسماعیل ساعی ورایرانی زاد

گروه فیزیک ، دانشگاه تربیت مدرس