به دام اندازی الکترون توسط میدان مغناطیسی چشمه یون مالتی کاسپ

در این مقاله ، تأثیری از انحصار الکترون توسط میدان مغناطیسی در چشمه یون مالتی کاسپ بررسی شده است . توزیع فضایی سه بعدی الکترونها ی تولید شده برای یک چشمه یون مالتی کاسپ بدست می آید. انحصار الکترون ،نقش خیلی مهمی برای تولید یون منفی در پلاسما بازی می کند. اثر انحصار الکترون با افزایش N )N،تعداد ردیف آهنربای دائمی) قویتر می شود. برعکس گریز الکترون از مخروط اتلاف با افزایش N بیشتر می شود برای N خیلی بزرگ، اثر اخیر چیره تر است. نتایج بررسی تناظر خوبی با محاسبات تئوری نشان داده اند، بنابراین کفایتی از تحقیقات پیشرفته و امکان ساخت چشمه یون کاراتر بر مبنای این تحقیق می توان داشت.