تاثیر استفاده از پیش پالس و هدف نانوساختار بر میزان گسیل اشعه ایکس از پلاسمای تولید شده به وسیله لیزرهای پرتوان

در این مقاله تاثیر استفاده از پیش پالس لیزری بر میزان افزایش اشعه ایکس ترمزی از اهداف فلزی نانو ساختار تحت تابش پالس لیزری پرتوان بررسی می شود. میزان گسیل اشعه ایکس از اهداف معمولی و نانو ساختار مقایسه شده است. محاسبات نشان می دهند که با انتخاب یک چگالی مناسب برای لایه نانوئی، میزان تابش اشعه افزایش قابل توجهی خواهد داشت. همچنین استفاده از یک پیش پالس لیزری با شدت و فاصله زمانی مناسب نسبت به پالس اصلی می تواند موجب افزیش بیشتر تابش اشعه از هدف نانو ساختار شود. هنگامی که شدت پیش پالس از یک مقدار مشخص (فرمول در متن اصلی مشخص می باشد) بیشتر شود، فرایند افزایش تضعیف خواهد شد. تاثیر فاصله زمانی بین پیش پالس و پالس اصلی نیز بررسی شده است.