اعمال پوشش کامپوزیتی کلسیم فسفات/گرافن اکسید به روش رسوب دهی الکتروشیمیایی پالسی

در این مطالعه ، پوشش زیست فعال کلسیم فسفاتی/ گرافن اکسید به روش رسوب دهی الکتروشیمیایی پالسی روی سطح تیتانیوم اعمال شد و به منظور افزایش چسبندگی پوشش، ترکیبی از آندایزینگ و عملیات قلیایی رحراتی تیتانیم قبل از اعمال پوشش انجام گرفت. نتایج نشان داد که لایه کامپوزیتی اعمالی در چگالی جریان های 2 و mA/cm2 5 توانایی پوشش دهی یکنواخت کل سطح تیتانیم را نداشت و برخی نواحی روی سطح بدون پوشش باقی ماندند. با افزایش چگالی جریان به 10 و mA/cm2 15، لایه کامپوزیتی با قدرت پوشانندگی بالا بر روی سطح تشکیل شد. اما در چگالی جریان های بالا به دلیل احیای بیشتر اب در الکترولیت پایه آبی و در نتیجه تصاعد حجم قابل توجهی از گاز هیدروژن در روی سطح کاتد، پوشش حاصله کیفیت مطلوبی نداشت که این مشکل با به کارگیری جریان پالسی و تغییر سیکل کاری از 0/3 به 0/1 برطرف شد. همچنین در حضور گرافن اکسید شانس تشکیل فاز پایدار هیدروکسی آپاتیت HA در مقایسه با سایر فازهای کلسیم فسفاتی افزایش یافت و پوشش متراکم تر حاصل شد.

کلیدواژه ها:

کلسیم فسفات ، گرافن اکسید ، رسوب دهی الکتروشیمیایی پالسی ، پوشش دهی یکنواخت