ناشر تخصصی کنفرانس های ایران

لطفا کمی صبر نمایید

Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings

Please waite ..
CIVILICAWe Respect the Science
ناشر تخصصی کنفرانسهای ایران
عنوان
مقاله

افزایش ضریب کیفیت سلف مسطح مربعیMEMS با کاهش اثر تجمع جریان در لبه ها و اثر همجواری

تعداد صفحات: 8 | تعداد نمایش خلاصه: 121 | نظرات: 0
سال انتشار: 1396
کد COI مقاله: ELECTRICA04_020
زبان مقاله: فارسی
(فایل این مقاله در 8 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد)

راهنمای دانلود فایل کامل این مقاله

اگر در مجموعه سیویلیکا عضو نیستید، به راحتی می توانید از طریق فرم روبرو اصل این مقاله را خریداری نمایید.

برای عضویت در سیویلیکا به صفحه ثبت نام مراجعه نمایید.در صورتی که دارای نام کاربری در مجموعه سیویلیکا هستید، ابتدا از قسمت بالای صفحه با نام کاربری خود وارد شده و سپس به این صفحه مراجعه نمایید.

لطفا قبل از اقدام به خرید اینترنتی این مقاله، ابتدا تعداد صفحات مقاله را در بالای این صفحه کنترل نمایید.

برای راهنمایی کاملتر راهنمای سایت را مطالعه کنید.

خرید و دانلود فایل مقاله

با استفاده از پرداخت اینترنتی بسیار سریع و ساده می توانید اصل این مقاله را که دارای 8 صفحه است به صورت فایل PDF در اختیار داشته باشید.

قیمت این مقاله : 0 تومان

آدرس ایمیل خود را در کادر زیر وارد نمایید:

مشخصات نویسندگان مقاله افزایش ضریب کیفیت سلف مسطح مربعیMEMS با کاهش اثر تجمع جریان در لبه ها و اثر همجواری

ساناز خیری - دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر، دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل
بهرام عزیزالله گنجی - دانشیار دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر، دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل

چکیده مقاله:

در این مقاله، یک سلف مسطح جدید با ضریب کیفیت باال، ارایه شده است. توزیع چگالی جریان غیریکنواخت به ویژه در دورهای داخلی با توجه به اثر پوستی و اثر همجواری، مقاومت موثر را افزایش میدهد. برای غلبه بر این مشکل، یک سلف جدید با عرض فلز و فاصله ی بین رشته ایی غیریکنواخت، به منظور افزایش ضریب کیفیت طرح شده است. برای طرح این سلف، از دور بیرونی به دور داخلی، عرض فلز کاهش و فاصله ی بین رشته ها افزایش مییابد. شبیه سازی توسط نرمافزار Multiphysics COMSOL صورت گرفته است که بیشترین مقدار ضریب کیفیت و اندوکتانس خودی به ترتیب در حدود 34.80 و 324 نانوهانری میباشد. نسبت به سلف معمولی 27 % در ضریب کیفیت بهبود یافت. فضای ساختاری اشغال شده 66.1*7.1 میلیمتر مربع است.

کلیدواژه ها:

سلف مسطح، عرض و فاصله ي بين رشته ايي غيريكنواخت، اثر همجواري، ضريب كيفيت

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

برای لینک دهی به این مقاله می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:

https://civilica.com/doc/726309/

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
خیری، ساناز و عزیزالله گنجی، بهرام،1396،افزایش ضریب کیفیت سلف مسطح مربعیMEMS با کاهش اثر تجمع جریان در لبه ها و اثر همجواری،دوازدهمین سمپوزیوم پیشرفت های علوم و تکنولوژی همایش ملی سرزمین پایدار، پژوهش های نوین در مهندسی برق و پزشکی،مشهد،،،https://civilica.com/doc/726309

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (1396، خیری، ساناز؛ بهرام عزیزالله گنجی)
برای بار دوم به بعد: (1396، خیری؛ عزیزالله گنجی)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مدیریت اطلاعات پژوهشی

صدور گواهی نمایه سازی | گزارش اشکال مقاله | من نویسنده این مقاله هستم

اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

علم سنجی و رتبه بندی مقاله

مشخصات مرکز تولید کننده این مقاله به صورت زیر است:
نوع مرکز: دانشگاه دولتی
تعداد مقالات: 5,529
در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

مقالات مرتبط جدید

به اشتراک گذاری این صفحه

اطلاعات بیشتر درباره COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.

پشتیبانی